装置を加熱するのはやめましょう：ウェーハを加熱するためのより良い方法 半導体製造における課題としては、ウェーハを十分に加熱する必要がある一方で、装置自体が溶けてしまっては困ります。 一般的なヒーターは、エネルギーをあちこちに放出します。これでは効率が悪く、余分な熱が装置の内部に蓄積され、その結果、...

ランプの破裂という悪夢を防ぐには 高負荷でウェーハを加熱処理しているとき、ランプが破裂するというのは単なる「メンテナンス上の問題」ではありません。それは大惨事です。 一瞬前までは何も問題なかったのに、次の瞬間には、クォーツの破片やハロゲンの沈着物がウェーハの表面に散らばってしまいます。これにより、...

シャードの発生を防ぐ：IRランプが故障したときにウェーハを清潔に保つ方法 大量生産の半導体工場において、ランプが破損するというのは単なる「稼働停止」という問題にとどまりません。それはまさに悪夢です。 石英管が破損すると、ガラスの破片やハロゲンガスが至る所に飛び散ります。一度破損すれば、作成されたウ...

ウェーハの乾燥時間を推測するのはやめましょう。IRが最適な解決策です。 MEMSセンサーのウェーハを乾燥させるとき、湿気という危険な要素と格闘していることになります。少しでも間違えると、表面張力によって微細な構造がくっついてしまいます。これを「スティクション」と呼び、高い歩留まりを維持しようとする...

清潔を保つために：ウェハー加熱の現実 半導体業界においては、わずかな汚れがあっても大惨事となります。クラス100のクリーンルームで作業を行う場合、加熱素子から出るわずかな破片でも、ウェハー全体が台無しになってしまいます。そのため、私たちは材料には細心の注意を払い、IRランプとしては高純度の合成石英...

ファブの現場では、スラリーから出てきたポストCMPウェーハには、依然としてパターン部分に微細な液滴が残っています。このようなウェーハは、基本的には歩留まりを向上させるチャンスがあるものです。水跡や再堆積、パターンの崩れといった問題は、リソグラフィーやエッチングの工程で初めて現れます。したがって、乾...

300mmウェハを扱う際には、焼成プロファイルが不安定になるのを感じることができます。線幅が不安定になり、現像後には汚れが見られるようになります。ホットゾーンが設定値と戦っていると、フォトレジストの使用量が増え、結果として歩留まりが低下します。私たちは、そのような状況を未然に防ぐために、赤外線シス...