半导体实验室烘箱灯

在光刻过程中，烤箱温度的波动不会通过警示灯来显示出来。这种波动会体现在曝光后关键尺寸的变化上，或者表现为光刻胶表面的不均匀性，又或者会导致良率下降，而要解决这些问题需要花费数天的时间。在晶圆干燥、软烘烤和硬烘烤过程中，热处理条件是固定不变的。 我们设计的半导体实验室用烤箱采用了短波红外线技术，因为...