快速晶圆干燥红外线

在线生产中，时间不是建议，而是界限。旋涂后，晶圆上覆盖着一层薄薄的光刻胶膜，必须进行调理和干燥，才能进行曝光。软烘如果控制不严，光刻胶轮廓会漂移。曝光后的硬烘如果不均匀，蚀刻容差会崩溃。如果最终干燥步骤留下水印或产生颗粒，第二天的良率报告中就会看到代价。 我们开发的快速晶圆干燥红外系统，旨在消除热...