Di bilik pemprosesan, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan. Ia merupakan titik kawalan yang tidak boleh dipalsukan. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan akan menyebabkan dimensi kritikal bahan tersebut menjadi tidak tepat, dan ini seterusnya akan menjejaskan kualiti permukaan bahan tersebut. Kami telah mencipta lampu pemanasan jenis Deep UV (DUV) yang mampu mengekalkan suhu yang diperlukan untuk proses pemprosesan—bukan suhu yang ditentukan oleh faktor-faktor lain.
Apa yang penting ketika wafer sedang diproses ialah konsistensi suhu pada setiap bahagian wafer. Lampu ini memastikan suhu pada setiap bahagian wafer kekal stabil dalam lingkungan ±0.1°C, sekali gus memastikan proses penghilangan bahan pelarut dan proses pengikatan antara molekul berjalan dengan lancar.
Profil output lampu ini disesuaikan agar sesuai dengan keperluan kimia bahan fotoresist jenis DUV. Respons termal yang cepat membolehkan masa pemanasan dikurangkan, tanpa mengorbankan kawalan terhadap profil suhu.
Keserasian dengan bilik bersih juga merupakan ciri penting dari lampu ini. Dalam persekitaran Kelas 1–100, tiada zarah yang dihasilkan akibat sumber haba tersebut. Sistem ini juga beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan yang tidak dijangka.
Kelebihan utama lampu ini ialah ketepatan suhu yang tinggi, yang seterusnya mengurangkan variasi dimensi bahan fotoresist serta kerja-kerja pembetulan yang diperlukan. Penggunaan tenaga juga lebih rendah, dan jangka hayat alat ini yang panjang bermakna kurang keperluan untuk penggantian alat atau penyelenggaraan.
Lampu ini sudah terbukti efektif dan memenuhi standard peralatan semikonduktor antarabangsa. Ia memberikan prestasi termal yang sama, tanpa memerlukan pengguna untuk bergantung pada satu penjual tertentu.
Satu perkara yang perlu diperhatikan ialah keseragaman suhu sangat bergantung pada geometri bilik pemprosesan serta cara wafer diletakkan di dalamnya. Hasil yang terbaik akan dicapai apabila lampu ini disesuaikan dengan kontur bilik pemprosesan yang spesifik, dan apabila prosedur pemanasan disesuaikan semula untuk mendapatkan hasil yang lebih baik.
Kami menyediakan data antaramuka dan nota aplikasi agar perubahan yang dilakukan dapat diukur dengan tepat, bukan sekadar anggaran semata-mata.