Pada proses pembakaran wafer, perubahan suhu dalam ketuhar tidak ditunjukkan melalui lampu amaran. Sebaliknya, perubahan tersebut akan mempengaruhi dimensi kritikal wafer setelah proses pembakaran selesai, atau menyebabkan gangguan pada profil fotoresist. Proses pengeringan wafer pula memerlukan kawalan suhu yang tepat.
Kami menggunakan sumber cahaya inframerah gelombang pendek dalam ketuhar semikonduktor kami, kerana tenaga cahaya ini dapat diserap secara langsung oleh fotoresist dan substrat wafer, bukannya dinding ketuhar. Ini membolehkan kawalan suhu yang lebih baik, serta hasil pembakaran yang konsisten dari satu batch ke batch yang lain.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami menggunakan sumber cahaya inframerah gelombang pendek yang memberikan tindak balas yang cepat dan kawalan spektrum yang tepat. Dengan ini, suhu wafer dapat dikawal dengan tepat, dalam lingkungan ±0.1°C. Kuasa maksimum lampu disesuaikan mengikut saiz ketuhar dan aliran udara, agar lampu dapat mencapai suhu yang diinginkan tanpa melebihi hadnya.
Lapisan kuarsa dan komponen seramik digunakan untuk mengurangkan penjanaan zarah-zarah berbahaya, sekali gus memastikan persekitaran yang bersih sesuai untuk proses pembuatan semikonduktor. Lampu ini boleh beroperasi 24/7, dengan prestasi yang stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%.
Mengapa kaedah ini berkesan dalam persiapan litografi
Dalam proses persiapan litografi, proses pembakaran lembut digunakan untuk menghilangkan bahan pelarut. Jika suhu terlalu rendah, bahan pelarut akan tetap melekat pada permukaan wafer. Jika suhu terlalu tinggi, bahan-bahan yang melindungi struktur fotoresist akan hilang. Kaedah inframerah kami membantu meningkatkan suhu wafer dengan cepat, lalu mengekalkannya pada tahap yang stabil, sehingga proses pembakaran dapat dilakukan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain.
Untuk proses pembakaran keras, lampu ini memastikan suhu yang diperlukan dapat dicapai tanpa adanya titik panas, sehingga integriti peranti dapat dipelihara dan kadar pengeluaran dapat ditingkatkan. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana lampu memanaskan produk secara langsung, bukan dinding ketuhar.
Butiran praktikal yang perlu diperhatikan
Semasa pemasangan, lampu perlu disesuaikan dengan geometri reflektor ketuhar dan pola aliran udara. Jika penyesuaian ini tidak betul, akan timbul variasi suhu di antara bahagian-bahagian wafer. Sebelum mengintegrasikan lampu ke dalam ketuhar, pastikan voltan, sambungan, dan had beban haba ketuhar sudah sesuai.
Dalam persekitaran yang mempunyai kelembapan tinggi, pastikan tingkap lampu tidak tertutup oleh embun, dengan menggunakan sistem penyegaran udara yang efektif. Rancanglah jadual penyelenggaraan lampu agar tidak berlaku gangguan operasi secara tiba-tiba.