Riscaldatore per essiccazione dei wafer post CMP
Nella fase di asciugatura post-CMP, il wafer che esce dal processo di trattamento è ancora ricoperto di microparticelle presenti sulle superfici del...
Calore uniforme per wafer da 300 mm IR
Nella linea da 300 mm, si può percepire quando il profilo di essiccazione inizia a deviare dal valore desiderato. I margini delle linee diventano...
Riscaldatore per wafer più venduto 2026
Out on the fab floor, pochi gradi possono decidere se un wafer passa o finisce nel cestino degli scarti. Un punto caldo durante la soft bake o la...
Essiccazione rapida dei wafer a infrarossi
On the line, l’orologio non è un suggerimento, è un limite. Dopo lo spin-coat, il wafer si trova con un sottile film di fotoresist che deve essere...