Přestaňte hádat dobu sušení vašich desek: Proč je infračervené záření nejlepší řešení Při sušení desek senzorů typu MEMS hrajete s vlhkostí...

Přestaňte se starat o kontaminaci při sušení ve vaší výrobní místnosti Když provozujete čistou místnost třídy 100, neexistuje prostor pro chyby....

V prostorách určených k výrobě se wafer po zpracování pomocí CMP stále nachází v kapalině, na jejímž povrchu zůstávají mikrokapky. V podstatě jde o...

Při použití technologie OLED lithografie neexistuje žádný prostor na termální odchylky. I malá odchylka o ±0,5 °C může způsobit nesrovnalosti v...

Na lince není hodiny otázkou doporučení – jsou hranicí. Po spin-coatu je wafer pokryt tenkou vrstvou fotorezistu, která musí být kondicionována a...