Di bilik pengeluaran, anda tahu bagaimana keadaannya: perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran photoresist boleh menyebabkan perubahan pada dimensi penting tersebut dalam skala nanometer, dan ini boleh memusnahkan keseluruhan kumpulan wafer yang dihasilkan. RTP bukan sekadar berkaitan dengan haba sahaja; ia juga melibatkan kawalan suhu yang konsisten pada tahap wafer, tanpa mengganggu kebersihan bilik pengeluaran.
Apa yang penting di belakang tabir
Kami membina lampu halogen ini menggunakan gelombang inframerah pendek dan selubung kuarsa, agar tindak balasnya cepat dengan kelewatan termal yang minimum. Ini membolehkan pengekalan keseragaman suhu pada tahap wafer dalam lingkungan ±0.1°C sepanjang proses pengeluaran. Inilah yang diperlukan untuk mengekalkan suhu yang stabil semasa proses pembakaran. Komponen lampu ini sesuai digunakan di bilik pengeluaran kelas 1–100, dengan bahan dan reka bentuk yang dipilih untuk mengurangkan jumlah zarah halus. Keluaran cahaya tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan luminous flux kurang dari 5%. Dengan ini, proses pengeluaran dapat berjalan lama tanpa perlu dikalibrasi setiap minggu.
Mengapa ini penting dalam proses litografi dan RTP
Kawalan suhu yang ketat sangat penting di sini. Keseragaman suhu yang tinggi dapat mengurangkan kecacatan pada bahagian tepi wafer, memudahkan kawalan dimensi wafer, dan meningkatkan kadar pengeluaran yang berjaya. Kelajuan pemanasan yang tinggi dapat memendekkan masa proses, tanpa perlu menggunakan tenaga yang berlebihan. Dengan menjaga kebersihan proses dan mengelakkan kehadiran zarah halus, jumlah wafer yang rosak akan berkurangan, serta meminimumkan kerja pembaikan. Keluaran cahaya yang stabil pula memastikan hasil pengeluaran yang konsisten dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain. Selain itu, kerana sistem ini dapat mencapai titik suhu yang ditetapkan dengan cepat dan mempertahankannya dengan tepat, tenaga yang dibazir akibat perubahan suhu dapat dikurangkan.
Beberapa nota untuk operasi di bilik pengeluaran
Untuk memastikan keseragaman suhu dalam lingkungan ±0.1°C, diperlukan reflektor yang sesuai serta penyesuaian fokus yang tepat. Memasang komponen ini ke dalam alat RTP lama adalah mudah, tetapi selubung kuarsa memerlukan pengendalian yang hati-hati dan pemasangan yang bersih. Keretakan kecil pada selubung kuarsa boleh menjadi sumber zarah halus yang merosakkan kualiti wafer. Sebelum mula menggunakan alat ini, lakukan ujian singkat untuk menentukan profil pemanasan dan masa yang diperlukan.