반도체 소자 특성 분석용 히터

팹에서 웨이퍼 특성 분석을 진행할 때 온도의 변동은 수율 예측 모델을 망가뜨리고 공정 범위를 줄여버립니다. 0.5도 정도의 온도 변동만으로도 장치의 한계가 숨겨질 수 있으며, 이를 해결하기 위해 반복적인 가열을 하면 포토레지스트가 손상되고 시간도 낭비됩니다. 필요한...