ファブの現場では、よく知られているように、フォトレジストを加熱する際に0.5℃のばらつきがあっただけで、重要な寸法がナノメートル単位で変動し、その結果、生産されたウェーハが全滅してしまうこともあります。RTPというのは単なる加熱処理ではなく、クリーンルームの環境を損なわずに、再現性の高いウェーハレベルでの温度制御が求められます。
重要なのは何か 私たちが開発したハロゲンランプは、短波長の赤外線と石英製のケースを使用しているため、応答速度が速く、熱的な遅延も最小限に抑えられています。これにより、処理エリア全体で±0.1℃以内の均一性が得られ、ソフトベイクやハードベイクの温度を正確に制御することが可能です。また、このランプはクラス1～100のクリーンルーム環境に適合しており、粒子数を減らすために適切な材料や形状が選ばれています。5,000時間以上使用しても出力の安定性が保たれ、光度の低下は5％未満です。そのため、毎週再調整を行わずに長期間にわたって使用できます。
リソグラフィーやRTPにおいてなぜ重要か ここでは温度管理が非常に重要です。均一性が高ければ、ウェーハの端部分の欠陥が減少し、CDの精度も向上し、初回の歩留まりも高くなります。また、迅速な温度上昇速度によりサイクルタイムが短縮されますが、ピークパワーが過度に高くなることはありません。プロセスを清潔に保ち、粒子を排除することで、不良品や再作業が減少します。そして、安定したランプ出力により、ロットごとの結果の再現性が保たれます。さらに、システムが迅速に設定値に到達し、精密に維持されるため、温度変動によるエネルギーの無駄遣いも減ります。
いくつかの注意点 ±0.1℃の均一性を維持するためには、適切な反射器と正確な焦点合わせが必要です。これらを既存のRTP装置に導入するのは簡単ですが、石英製のケースは慎重な取り扱いと清潔な設置が求められます。微細な傷があると、後々粒子の原因になってしまいます。実際に使用する前に、自分の工程に合わせて十分な試験を行い、温度上昇のパターンや保持時間を確認してください。