ファブ内では、ウェーハの乾燥やフォトレジストの焼成時に生じる熱変動は、単に生産効率を低下させるだけではありません。これにより、ウェーハの寸法が変わり、歩留まりも悪化します。グローブボックス内では、厳しい環境下で均一な温度を維持する必要があります。そこで、従来のヒーターでは粒子を発生させずに均一性を保つのが難しいのです。私たちは、このような状況に合わせて赤外線ヒーターを開発しました。
重要な点 私たちは、石英製のケースを持つ短波長赤外線エミッターを使用しています。これにより、熱が迅速かつ方向性を持って伝達され、放射率も安定します。その結果、プロセス全体を通じてウェーハ全体の温度が±0.1℃以内に抑えられ、高速な処理にも対応できます。出力も再現性が高く、ソフトベイクやハードベイクの工程もバッチごとに安定して行えます。これらのエミッターは、クラス1–100のクリーンルーム内で使用され、ガス放出が少なく、通常の運用時に粒子が発生しないように設計されています。
実際に利用される理由 ウェーハの乾燥においては、赤外線エネルギーによって溶剤が迅速かつ均一に除去され、表面の欠陥が減少します。リソグラフィーにおいては、フォトレジストの焼成の再現性が向上し、CDの精度が高まり、再作業が減ります。パッケージングにおいては、予測可能な熱特性により、接着力や信頼性が維持されます。また、ヒーターが必要な時だけ熱を供給するため、エネルギー消費も削減されます。信頼性に関しては、24時間365日稼働しても安定した出力が得られ、メンテナンス間隔も一定です。
現場での注意点 設置時には、グローブボックスとの接続部分、電力密度、そして熱的な隙間に注意が必要です。エミッターを反射板の形状に合わせ、コントローラーのフィードバック回路も適切に調整する必要があります。そうしないと、熱の集中やオーバーシュートが発生します。また、設備のサイズに合わせて電圧、寸法、コネクタの種類を選ぶ必要があります。正確な位置合わせと校正を行えば、システムは正常に動作します。それを怠ると、温度の均一性や再現性が失われます。