製造現場では、わずか0.5度の温度変動だけでも、部品の寸法精度に影響を与え、歩留まりを低下させてしまいます。従来のヒーターでは、温度の遅れや端部分での温度上昇といった問題を解決することができず、その結果、製造工程に悪影響が出ます。そこで、私たちはIC処理用のコンパクトな赤外線乾燥機を開発し、こうした不確実性を排除しました。
赤外線加熱：数ミリメートル単位の均一性と再現性
この装置は、フォトレジストが吸収しやすい波長の近赤外線を利用しており、エネルギーがより迅速に伝わり、温度管理が容易になります。ウェーハ全体にわたって数ミリメートル単位の均一性が得られ、加熱中の温度は±0.1°C以内に保たれます。 ウェーハ表面での閉ループ式温度計測と、不要な熱が拡散するのを防ぐ反射型キャビティにより、繰り返し作業時の再現性も非常に高く、重要な加熱条件が安定して維持されます。
なぜ有効なのか
リソグラフィー分野では、ソフトベイクでもハードベイクでも同じ精度で制御が可能であり、処理時間を短縮しつつ、フォトレジストの形状を正確に保つことができます。洗浄や乾燥の際には、低k膜を過熱させることなく水分を除去します。 この装置は、クラス1～100のクリーンルーム環境でも問題なく使用でき、インサイト監視により粒子の発生がないことが確認されています。NIRを利用するため、部品自体が加熱されるだけで、部屋全体が加熱されることはありません。24時間365日の連続運転にも適しており、発光体の寿命は5,000時間以上で、出力も安定しています。
設置時の注意点
設置には、専用の24VDCの電源回路と、ビームの位置を正確に保持するためのクリーンで振動が少ない作業台が必要です。この乾燥機は150mmおよび200mmのウェーハ向けに最適化されていますが、300mmのウェーハを使用する場合は、カスタム製のチャックと校正プロセスが必要です。 まずは短時間のテストを行い、ご自身のウェーハの特性を把握した上で、最適な設定を決定してください。