Arrêtez d’attendre que vos wafer sèchent : pourquoi l’infrarouge est préférable à l’air chaud
Si vous avez déjà travaillé dans le domaine du traitement avancé des semi-conducteurs, vous savez que c’est généralement pendant l’étape de rinçage que tout ralentit. C’est un véritable goulot d’étranglement.
J’ai encore vu beaucoup d’usines utiliser de l’air chaud pour sécher leurs wafer. Bien sûr, cela fonctionne, mais c’est extrêmement lent. En utilisant des lampes infrarouges étanches, vous changez complètement les règles du jeu.
** Parlons du temps nécessaire pour sécher les wafer**
L’air chaud repose sur la convection : on chauffe l’air, on le souffle sur la surface du wafer, et on attend que l’humidité s’évapore. C’est un processus lent et fastidieux.
L’infrarouge, lui, utilise de l’énergie rayonnante. La chaleur se déplace en ligne droite et atteint immédiatement la surface du wafer. Il s’agit de secondes, pas de minutes. Lorsque le temps de séchage diminue autant, vous disposez de beaucoup plus d’espace dans votre usine, car la ligne de séchage n’a plus besoin d’être si longue.
** Gérer le problème de l’humidité**
Le problème, c’est que les étapes de rinçage sont très humides. Si vous mettez une lampe infrarouge ordinaire dans cet environnement, elle va se briser dès que de l’eau touche son quartz chaud. C’est un désastre.
C’est pourquoi nous utilisons des lampes avec des joints étanches et des revêtements spéciaux. Elles peuvent fonctionner dans ces zones à forte humidité sans que les filaments ne brûlent. De plus, ces lampes réagissent instantanément. Un four à air chaud met beaucoup de temps à se chauffer ou à se refroidir. Avec l’infrarouge, c’est instantané. Il suffit d’avoir un système de contrôle précis pour maintenir cette efficacité.
** Les inconvénients**
Ce n’est pas tout rose. Les lampes infrarouges de haute intensité génèrent une chaleur énorme. Cela est idéal pour accélérer le processus, mais cela représente une charge importante pour le substrat. Si vous utilisez trop de puissance ou si vous placez les lampes trop près du wafer, celui-ci peut se déformer. Il faut donc prendre le temps de calibrer la hauteur et la puissance des lampes en fonction de l’épaisseur du matériau.
Passer de l’air chaud à l’infrarouge, ce n’est pas simplement remplacer un composant. C’est changer complètement sa façon de penser concernant le temps de traitement. Vous pourrez ainsi faire passer les wafer à travers le système beaucoup plus rapidement – à condition que l’étape de refroidissement puisse suivre ce rythme.