<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>实验室 on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/zh/tags/%E5%AE%9E%E9%AA%8C%E5%AE%A4/</link>
		<description>Recent content in 实验室 on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>zh</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/zh/tags/%E5%AE%9E%E9%AA%8C%E5%AE%A4/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>半导体实验室烘箱灯</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/zh/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/zh/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;半导体实验室烘箱灯&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在光刻过程中，烤箱温度的波动不会通过警示灯来显示出来。这种波动会体现在曝光后关键尺寸的变化上，&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;或者表现为&lt;/a&gt;光刻胶表面的不均匀性，又或者会导致良率下降，而要解决这些问题需要花费数天的时间。在晶圆干燥、软烘烤和硬烘烤过程中，热处理条件是固定不变的。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;我们设计的半导体实验室用烤箱采用了短波红外线技术，因为这种能量可以直接作用于光刻胶和晶圆基底，而不会加热烤箱的墙壁。这样一来，就能实现快速的升温过程，同时保持精确的温度控制，而且每次烘烤的结果都十分稳定。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
