Các bộ phận sưởi dùng trong chất cảm ứng tia UV cực tím (EUV)

Sun, 05 Jul 2026 13:15:47 +0800

Hệ thống làm nóng chống tia cực tím mạnh: Sự thật kỹ thuật rõ ràng
Chúng tôi chế tạo các bộ làm nóng chống tia cực tím mạnh nhằm cạnh tranh với các thương hiệu hàng đầu của Mỹ và Nhật Bản mà bạn đã biết. Điểm khác biệt ở đây là chúng tôi vẫn đạt được cùng mức hiệu suất như các thương hiệu đó, nhưng lại không khiến chi phí của bạn tăng cao.

Đèn nung chất cách điện UV sâu (DUV)

Sun, 28 Jun 2026 06:08:52 +0800

Trong quy trình sản xuất, việc sấy khô chất bảo vệ bề mặt wafer không phải là một giai đoạn tạm dừng; đó là một bước kiểm soát quan trọng mà không thể bỏ qua được. Chỉ cần có sự thay đổi nhiệt độ 1°C trong quá trình sấy khô, kích thước của các chi tiết trên wafer sẽ bị sai lệch, và độ nhám của các đường viền trên bề mặt wafer cũng sẽ tăng lên. Chúng tôi đã thiết kế bộ đèn sấy khô loại Deep UV (DUV) sao cho nhiệt độ được duy trì ở mức cần thiết trong quy trình sản xuất – chứ không phải ở mức mà thiết bị tự định lại. Điều quan trọng khi wafer được xử lý là độ ổn định của nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer, ở mức ±0,1°C. Điều này giúp đảm bảo quá trình loại bỏ chất hòa tan và quá trình liên kết các phân tử diễn ra một cách ổn định. Bước sóng của ánh sáng được điều chỉnh phù hợp với tính chất hóa học của chất bảo vệ bề mặt wafer; đồng thời, khả năng phản ứng nhanh với nhiệt độ giúp rút ngắn thời gian sấy khô mà vẫn giữ được độ chính xác trong quy trình xử lý. Khả năng tương thích với môi trường phòng sạch cũng là một ưu điểm nổi bật của thiết bị này. Trong môi trường phòng sạch loại 1–100, không có sự phát sinh hạt bụi nào từ nguồn nhiệt; hệ thống hoạt động 24/7 mà không gặp sự cố nào. Nhờ đó, bạn có thể đạt được độ chính xác cao trong việc kiểm soát nhiệt độ khi sấy khô chất bảo vệ bề mặt wafer, từ đó giảm thiểu sai số kích thước và các công việc sửa chữa sau đó. Mức tiêu thụ năng lượng cũng thấp hơn nhờ thiết kế thông minh của thiết bị; đồng thời, tuổi thọ của các bộ phận phát sáng cũng cao, giúp giảm chi phí thay thế và bảo trì. Đây là giải pháp đã được kiểm chứng, phù hợp với các tiêu chuẩn quốc tế về thiết bị bán dẫn – với hiệu suất nhiệt độ tương tự, mà không gây ra sự phụ thuộc vào nhà cung cấp. Một lưu ý quan trọng: độ đồng đều về nhiệt độ phụ thuộc vào cấu trúc của buồng sấy và cách đặt wafer trong buồng đó. Bạn sẽ đạt được kết quả tốt nhất khi bộ đèn được điều chỉnh phù hợp với kích thước của buồng sấy, và khi quy trình sấy khô được tối ưu hóa cho từng loại wafer cụ thể. Chúng tôi cung cấp dữ liệu liên quan và hướng dẫn sử dụng để bạn có thể đo lường được hiệu quả của việc thay đổi này, chứ không phải chỉ dựa vào suy đoán.

Chống Lại; Kháng Cự on Infrared Heating Applications

Các bộ phận sưởi dùng trong chất cảm ứng tia UV cực tím (EUV)

Đèn nung chất cách điện UV sâu (DUV)