Сушіння on Infrared Heating Applications

Нагрівач для сушіння пластин датчиків MEMS

Mon, 20 Jul 2026 11:46:38 +0800

Припиніть здогадуватися щодо часу сушіння пластин: чому саме ІЧ-технології є оптимальним рішенням
Коли ви сушите пластини датчиків типу MEMS, ви берете участь у небезпечної грі з вологою. Одна помилка може призвести до того, що поверхневий натяг з’єднає ці крихкі мікроструктури разом. Ми називаємо це явище „адгезією“, і це справжній кошмар для тих, хто прагне досягти високої продуктивності.

Якщо ви створюєте сучасний завод, не можна покладатися на старі методи. Вам потрібен теплоносій, який буде ефективно функціонувати.

Енергетичний аудит для сушарки

Mon, 13 Jul 2026 17:53:16 +0800

Перестаньте турбуватися щодо можливого забруднення під час сушіння ваших кристалів силіцію.
Коли ви працюєте у чистій кімнаті класу 100, тут немає жодних можливостей для помилок. Одна-єдина частинка пилу чи навіть трохи газів, які виділяються дешевими нагрівальними елементами, можуть знищити ваші кристали силіцію. Це справжній кошмар.
Саме тому ми перейшли на використання ламп інфрачервоного світла з високою чистотою синтетичного кварцу.

Чому саме кварц є ідеальним рішенням
Ми використовуємо сплав силіцику, з якого видалено майже всі домішки. Чому? Тому що при високих температурах стандартні матеріали починають руйнуватися. Вони можуть вивільняти металеві іони чи інші шкідливі речовини прямо у процес обробки. Кварц не поводиться так. Крім того, він витримує стрибки напруги без появи тріщин. Ви можете регулювати температуру без побоювань, що трубки розірвуться.

Нагрівач для сушіння пластин після процедури CMP

Thu, 02 Jul 2026 09:27:37 +0800

На виробничому полі, пластинка після процедури CMP, яка виходить з розчину, все ще містить мікрокраплі на своїх поверхнях. Це означає, що для отримання якісного продукту потрібно ще провести додаткові операції. Проблеми, пов’язані з водяними слідами, повторним нанесенням матеріалу чи руйнуванням структури пластинки, зазвичай проявляються на більш пізньому етапі – саме тоді, коли починається літографія та етching. Пристрій для сушіння – це не просто „зручний допоміжний пристрій“. Це останній елемент системи контролю температури перед тим, як пластинка виходить з пристрою CMP.

Лампа для сушіння під час виробництва OLED дисплеїв

Tue, 23 Jun 2026 00:57:26 +0800

Під час процесу сушіння OLED-дисплеїв технологія літографії не дозволяє враховувати можливі теплові відхилення. Навіть незначні відхилення на рівні ±0,5°C можуть призвести до неоднорідності параметрів покриття, а також до проблем із процесом етchingу. Тож необхідна лампа для сушіння, яка буде залишатися стабільною у своїй роботі, а не змінювати свої параметри залежно від умов навколишнього середовища.

Що ми створили та чому
Ми використали галогенні випромінювачі короткохвильового інфрачервоного спектру всередині кварцового корпусу для сушіння OLED-дисплеїв. Це дозволяє швидко передавати енергію до фоторезисту з мінімальним нагріванням самого підкладку. Система контролю температури забезпечує стабільність температури в межах ±0,1°C по всій поверхні пластини, а повторюваність результатів – 0,05°C між циклами.

Інфрачервона швидка сушка пластин

Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800

На лінії годинник — не рекомендація, а межа. Після нанесення фотополімеру методом spin-coat пластина залишається з тонким шаром фотополімеру, який потрібно кондиціонувати та висушити перед експозицією. Неправильний Soft Bake призводить до зміщення профілю резисту. Нерівномірний Hard Bake після експозиції зменшує допустимість травлення. Якщо на останньому етапі сушіння залишаються водяні плями або піднімаються частинки, це позначиться на звіті про вихід продукції наступного ранку.
Ми розробили нашу систему швидкого сушіння пластин інфрачервоним випромінюванням для виключення цих змінних з теплових процесів. Йдеться не просто про нагрівання, а про відтворюваний контроль температури на рівні пластини, що вписується в виробничий цикл і бюджет чистої кімнати.