<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Віфлеєм on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/</link>
		<description>Recent content in Віфлеєм on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:27:37 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагрівач для сушіння пластин після процедури CMP</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/uk/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:27:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/uk/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Нагрівач для сушіння пластин після процедури CMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничому полі, пластинка після процедури CMP, яка виходить з розчину, все ще містить мікрокраплі на своїх поверхнях. Це означає, що для отримання якісного продукту потрібно ще провести додаткові операції. Проблеми, пов’язані з водяними слідами, повторним нанесенням матеріалу чи руйнуванням структури пластинки, зазвичай проявляються на більш пізньому етапі – саме тоді, коли починається літографія та етching. Пристрій для сушіння – це не просто „зручний допоміжний пристрій“. Це останній елемент системи контролю температури перед тим, як пластинка виходить з пристрою CMP.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Рівномірне нагрівання для пластини діаметром 300 мм в інфрачервоному діапазоні</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/uk/posts/uniform-heat-for-300mm-wafer-ir/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 13:07:50 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/uk/posts/uniform-heat-for-300mm-wafer-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Рівномірне нагрівання для пластини діаметром 300 мм в інфрачервоному діапазоні&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На лінії обробки пластин діаметром 300 мм можна відчути проблеми, коли процес висушування починає відхилятися від заданих параметрів. Ширина ліній на поверхні пластини змінюється, а після обробки з’являється небажаний наліт. Коли гаряча зона не може підтримувати задану температуру, це призводить до зайвих витрат на фоторезист та зниження якості продукції. Ми створили систему інфрачервоного опромінення, яка допомагає уникнути таких проблем ще на початковому етапі.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Матриця короткохвильових інфрачервоних випромінювачів налаштована так, щоб забезпечити однорідність температури на всій поверхні пластини – з допуском ±0,1°C під час процедур м’якого та жорсткого висушування. Швидка реакція системи дозволяє уникнути затримок у досягненні заданої температури. Гаряча зона сумісна з умовами чистих приміщень класу від 1 до 100, крім того, вона не створює жодних частинок під час роботи. Це забезпечує надійну роботу 24/7 без непланових перерв, а також стабільність параметрів якості продукції.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
