<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Вайфер on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/uk/tags/%D0%B2%D0%B0%D0%B9%D1%84%D0%B5%D1%80/</link>
		<description>Recent content in Вайфер on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/uk/tags/%D0%B2%D0%B0%D0%B9%D1%84%D0%B5%D1%80/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Інфрачервона швидка сушка пластин</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/uk/posts/rapid-wafer-drying-infrared/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/uk/posts/rapid-wafer-drying-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Інфрачервона швидка сушка пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На лінії годинник — не рекомендація, а межа. Після нанесення фотополімеру методом spin-coat пластина залишається з тонким шаром фотополімеру, який потрібно кондиціонувати та висушити перед експозицією. Неправильний Soft Bake призводить до зміщення профілю резисту. Нерівномірний Hard Bake після експозиції зменшує допустимість травлення. Якщо на останньому етапі сушіння залишаються водяні плями або піднімаються частинки, це позначиться на звіті про вихід продукції наступного ранку.&lt;br&gt;&#xA;Ми розробили нашу систему швидкого сушіння пластин інфрачервоним випромінюванням для виключення цих змінних з теплових процесів. Йдеться не просто про нагрівання, а про відтворюваний контроль температури на рівні пластини, що вписується в виробничий цикл і бюджет чистої кімнати.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
