<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>CMP on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/tr/tags/cmp/</link>
		<description>Recent content in CMP on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/tr/tags/cmp/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>CMP sonrası yonga kurutma ısıtıcısı</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/tr/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/tr/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;CMP sonrası yonga kurutma ısıtıcısı&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Üretim alanında, &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;slurrydan&lt;/a&gt; çıkan ve yüzeyinde hâlâ mikro damlacıklar bulunan Post CMP waferleri, aslında üretim sürecinde başarıya ulaşmış waferlerdir. Su izleri, yeniden birikme ve desenlerin bozulması gibi &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;sorunlar&lt;/a&gt; genellikle litografi ve aşındırma işlemleri sırasında ortaya çıkar. Kurutma ısıtıcısı sadece “istenebilecek bir özellik” değildir; waferin CMP ünitesinden çıkmasından önceki son ısı kontrol noktasıdır.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Teknik açıdan önemli olanlar&lt;/strong&gt;&#xA;Post CMP waferlerini kurutmak için kullanılan ısıtıcı, kuvars-halogen kısa dalga emicisine dayanmaktadır. Bu emici enerjiyi hızlı ve doğrudan ileterek çıktının stabil kalmasını sağlar. Wafer yüzeyindeki termal düzenlilik ±0,1°C civarında tutulur; bu da ilk ve son waferler arasında termal farkların oluşmasını engeller.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
