Üretim alanında, yarım derece bile olsa meydana gelen küçük sıcaklık değişiklikleri, ürünlerin kritik boyutlarını etkileyebilir ve verimliliği düşürebilir. Geleneksel ısıtıcılar, termal gecikmeleri ve kenarlarda oluşan sıcaklık farklılıklarını engellemeye çalışır; ancak bu belirsizlikler üretim sürecinde sorunlara yol açar. Bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için IC işlemleri için kompakt bir kızılötesi kurutucu geliştirdik.
Kızılötesi ısıtma: Sub-milimetre seviyesinde eşitlik ve tekrarlanabilirlik
Bu cihaz, fotoresistlerin enerjiyi emmesine uygun şekilde ayarlanmış yakın kızılötesi (NIR) ışık kaynaklarından yararlanır. Böylece enerji daha hızlı bir şekilde nüfuz eder ve sıcaklık kontrolü sağlanır. Wafer üzerinde sub-milimetre seviyesinde eşitlik sağlanır ve pişirme işlemi sırasında sıcaklık ±0,1°C aralığında sabit kalır.
Wafer seviyesinde kapalı döngülü sıcaklık ölçüm sistemleri kullanılır ve yansıtıcı yapılar sayesinde gereksiz ışınların yayılması engellenir. Üretim süreçlerindeki tekrarlanabilirlik tek haneli miligrad seviyesindedir; böylece kritik parametreler sabit kalır.
Neden bu yöntem etkilidir?
Litografi işlemlerinde hem yumuşak hem de sert pişirme işlemlerini aynı şekilde kontrol eder; böylece döngü süresi kısalarak fotoresistlerin kalitesi korunur. Temizleme ve kurutma işlemlerinde ise düşük-k dielektrik katsayılı malzemelerin aşırı ısınmasını önleyerek nemin uzaklaştırılmasını sağlar.
Bu cihaz, Class 1–100 temiz odalarında rahatlıkla kullanılabilir ve yerinde izleme yöntemleriyle partikül üretmez. Enerji tüketimi azalır çünkü NIR ışınları sadece hedef alanı ısıtır, odayı değil. Cihaz 24/7 çalışacak şekilde tasarlanmıştır; ışık kaynaklarının ömrü 5.000 saatten fazladır ve çıkış gücü sabittir.
Planlama sırasında dikkat edilmesi gerekenler
Kurulum için özel bir 24 VDC güç kaynağı ve titreşimden uzak, temiz bir platform gereklidir. Kurutucu, 150 mm ve 200 mm boyutundaki waferler için optimize edilmiştir; 300 mm boyutundaki waferler için özel bir tutucu ve kalibrasyon prosedürü gereklidir. Öncelikle belirli film katmanlarınız için kısa bir test yapın ve ardından prosedürü sabitleyin.