ดรีเออร์ on Infrared Heating Applications

ตัวควบคุมเครื่องอบด้วยแสงอินฟราเรดแบบดิจิทัล

Mon, 27 Jul 2026 09:07:28 +0800

การควบคุมอุณหภูมิในโรงงานผลิตชิป

การผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์นั้นต้องอาศัยการควบคุมอุณหภูมิอย่างแม่นยำ หากอุณหภูมีความผิดเพี้ยนเพียงเล็กน้อย ก็จะส่งผลเสียได้ ดังนั้นเราจึงหันมาใช้ระบบควบคุมความร้อนแบบดิจิทัลแทนระบบแบบเก่าที่มีข้อจำกัดมากมาย

สิ่งสำคัญคือการลดการสูญเสียพลังงาน ห้องสะอาดนั้นใช้พลังงานมาก ดังนั้นเราจึงพยายามลดการปล่อยก๊าซคาร์บอนไดออกไซด์ให้น้อยลง

เหตุใดระบบ IR แบบดิจิทัลถึงมีประสิทธิภาพ

ลองนึกถึงเครื่องทำความร้อนแบบเก่าดูสิ มันใช้เวลาครึ่งหนึ่งไปกับการทำให้อากาศรอบๆ ร้อนขึ้น ซึ่งเป็นการสูญเสียพลังงานโดยเปล่าประโยชน์ แต่รังสี IR นั้นแตกต่างออกไป เพราะมันสามารถส่งพลังงานไปยังวัสดุที่ใช้ในการผลิตชิปได้โดยตรง

เราใช้ตัวควบคุมแบบดิจิทัลเพื่อปรับระดับพลังงานได้ตามความต้องการ ซึ่งช่วยให้ไม่เกิดการเพิ่มอุณหภูมิเกินไป และช่วยให้อุณหภูมิคงที่อยู่ในช่วง $\pm 1^\circ\text{C}$ ซึ่งช่วยลดค่าใช้จ่ายด้านพลังงานได้อย่างมาก

รายละเอียดเกี่ยวกับอุปกรณ์และการเชื่อมต่อไฟฟ้า

คุณไม่สามารถเสียบอุปกรณ์นี้เข้ากับปลั๊กไฟธรรมดาได้ ระบบจำเป็นต้องมีการจัดการพลังงานอย่างเหมาะสม เรามักใช้ตัวควบคุมพลังงานแบบ SCR เพราะมันสามารถรับมือกับกระแสไฟฟ้าสูงได้โดยไม่เกิดความเสียหาย

แต่ก็มีข้อจำกัดอยู่ นั่นคือคุณต้องจัดการกับระบบระบายอากาศให้ดีด้วย ระบบ IR แบบดิจิทัลสร้างความร้อนขึ้นมามากในพื้นที่เล็กๆ หากระบบระบายอากาศไม่ดี ก็อาจทำให้อุปกรณ์เสียหายได้ ดังนั้นคุณต้องใส่ใจกับการระบายความร้อนให้มากขึ้น

การลดการใช้พลังงานในโรงงาน

สิ่งที่ดีที่สุดคือ ทุกอย่างจะแห้งเร็วขึ้น และใช้พลังงานน้อยลง นั่นหมายถึงการปล่อยก๊าซคาร์บอนไดออกไซด์น้อยลง ซึ่งเป็นข้อดีสำหรับทุกฝ่าย

คุณจะเห็นผลนี้ได้ชัดเจนในขั้นตอนการทำให้วัสดุแห้ง เราไม่ต้องเปิดหลอดไฟตลอดเวลา ซึ่งจะทำให้หลอดไฟพังเร็ว แต่เราใช้ระบบการส่งพลังงานแบบดิจิทัลแทน ซึ่งช่วยให้หลอดไฟมีอายุการใช้งานนานขึ้น และช่วยให้กระบวนการทั้งหมดดำเนินไปอย่างราบรื่น

เครื่องอบด้วยแสงอินฟราเรดแบบกระทัดรัดสำหรับชิป IC

Thu, 25 Jun 2026 05:07:21 +0800

ในบริเวณโรงงานผลิตชิป แม้ว่าอุณหภูมิจะเพิ่มขึ้นเพียงครึ่งองศาเดียว ก็สามารถส่งผลกระทบต่อขนาดของชิปได้ และทำให้ประสิทธิภาพการผลิตลดลง กล่องควบคุมอุณหภูมิแบบดั้งเดิมไม่สามารถรับมือกับปัญหาการเปลี่ยนแปลงของอุณหภูมิได้อย่างมีประสิทธิภาพ ซึ่งส่งผลให้คุณภาพของชิปลดลง เราจึงออกแบบเครื่องอบด้วยแสงอินฟราเรดที่มีขนาดกะทัดรัด เพื่อลดความแปรปรวนดังกล่าว

การใช้แสงอินฟราเรด: ความสม่ำเสมอในระดับต่ำกว่ามิลลิเมตร และความสามารถในการทำซ้ำที่สูง
เครื่องนี้ใช้แสงอินฟราเรดชนิด NIR ซึ่งมีความสามารถในการทำให้พลังงานเข้าสู่วัสดุได้อย่างรวดเร็ว ทำให้อุณหภูมิคงที่อยู่ในช่วง ±0.1°C ตลอดกระบวนการอบ

เหตุใดจึงได้ผลดีในสถานการณ์สำคัญ
ในกระบวนการลิโธกราฟี เครื่องนี้สามารถควบคุมกระบวนการอบได้อย่างมีประสิทธิภาพ ทำให้ลดเวลาการผลิตลง และยังช่วยรักษาคุณภาพของวัสดุไว้ได้ ในกระบวนการทำความสะอาดและอบแห้ง เครื่องนี้สามารถขจัดความชื้นออกได้โดยไม่ทำให้ฟิล์มที่มีความหนาต่ำเกิดความร้อนเกินไป

ข้อควรระวังในการใช้งาน
การติดตั้งเครื่องนี้ต้องใช้แหล่งจ่ายไฟ 24 VDC แบบคลาส 2 และต้องมีโต๊ะที่ปลอดภัยและไม่มีการสั่นสะเทือน เพื่อให้ลำแสงอยู่ในตำแหน่งที่ถูกต้อง เครื่องนี้ออกแบบมาสำหรับการใช้งานกับวัสดุขนาด 150 มม. และ 200 มม. ส่วนวัสดุขนาด 300 มม. จำเป็นต้องมีอุปกรณ์พิเศษและขั้นตอนการปรับแต่งเพิ่มเติม

คำแนะนำในการใช้งาน
ควรทำการทดสอบเบื้องต้นเพื่อประเมินคุณสมบัติของวัสดุที่ใช้ จากนั้นจึงกำหนดขั้นตอนการใช้งานที่เหมาะสม

สายการผลิตเครื่องอบฟิล์มแยกแบตเตอรี่

Mon, 01 Jun 2026 20:41:08 +0800

บนพื้นโรงงาน ความคลาดเคลื่อนของอุณหภูมิไม่ได้แสดงเป็นป้ายเตือนให้เห็น คุณจะสังเกตได้จากผลผลิตในไลน์ที่ลดลง การเพิ่มขึ้นของอนุภาคบนจอมอนิเตอร์ หรือโพรไฟล์ของฟอตโตรีซิสต์ที่เริ่มเปลี่ยนแปลงไปในแต่ละกะ ในกระบวนการอบแห้งเวเฟอร์ การอบฟอตโตรีซิสต์แบบ soft bake และ hard bake รวมถึงการบ่มในบรรจุภัณฑ์ อุณหภูมิไม่ได้เป็นเพียงแค่ปุ่มควบคุม แต่มันคือกระบวนการที่คุณต้องรับผิดชอบ
สิ่งที่สำคัญภายใต้ระบบ
เราออกแบบเครื่องอบแห้งและโมดูลอบโดยเน้นการควบคุมอุณหภูมิที่แม่นยำ: ความสม่ำเสมอ ±0.1°C ทั่วทั้งโซนร้อน วัดที่ระนาบเวเฟอร์ ไม่ใช่ที่บล็อกฮีตเตอร์ NIR และ medium-wave IR ส่งพลังงานโดยตรงเข้าสู่ฟิล์มและเรซิสต์ ทำให้ได้รอบการทำงานที่เร็วขึ้นโดยไม่มีการเกินอุณหภูมิ ฮีตเตอร์คาร์บอนไฟเบอร์ช่วยให้อบติดแน่นและซ้ำได้อย่างเสถียร ชุดอุปกรณ์ทั้งหมดรองรับการใช้งานในห้องสะอาดตั้งแต่ Class 1 ถึง Class 100 โดยไม่ก่อให้เกิดอนุภาคที่จุดสัมผัสกระบวนการ และมีระบบระบายอากาศที่ป้องกันการปนเปื้อนภายนอก ความสามารถในการทำซ้ำถูกออกแบบมาอย่างดี—จุดตั้งค่าคงที่ภายในช่วงความคลาดเคลื่อน ชั่วยามแล้วชั่วยามเล่า ชุดงานแล้วชุดงานเล่า
เหตุผลที่สามารถใช้งานได้จริงในกระบวนการผลิต
ในสายการผลิตลิโธกราฟี เครื่องเดียวกันนี้รองรับทั้ง soft bake และ hard bake โดยมีโพรไฟล์ที่สม่ำเสมอ ทำให้การเปลี่ยนแปลงของ CD และความหนาไม่ก่อให้เกิดปัญหา ในกระบวนการทำความสะอาดและอบแห้ง เครื่องช่วยให้เวเฟอร์แห้งและปราศจากจุดโดยไม่มีการช็อกทางความร้อน ในการบรรจุภัณฑ์ เครื่องบ่มสาร encapsulants และ underfills ตามกำหนดเวลาโดยไม่เกิดรอยต่อเย็น ผลลัพธ์คือเวลารอบที่คาดเดาได้ ชุดงานเสียลดลง และงบประมาณพลังงานความร้อนที่คงที่ การใช้พลังงานลดลงเนื่องจากฮีตเตอร์ทำความร้อนถึงจุดตั้งค่าอย่างรวดเร็วและคงอุณหภูมิโดยไม่ต้องเปิด-ปิดซ้ำ
สิ่งที่ต้องวางแผนล่วงหน้า
แพลตฟอร์มนี้สามารถติดตั้งในรางและเตาอบที่มีอยู่แล้วได้ แต่ขนาดพื้นที่และการเดินท่อระบายอากาศต้องสอดคล้องกับข้อจำกัดของโรงงาน ควรจัดสรรแรงดันไฟฟ้าและสายดินเฉพาะเพื่อรักษาความสม่ำเสมอในระดับที่ต้องการ และคาดว่าจะมีช่วงเวลาการติดตั้งสั้น ๆ เพื่อปรับโพรไฟล์ให้เหมาะสมกับชั้นฟิล์มของคุณ เมื่อระบบตั้งค่าเสร็จเรียบร้อยแล้ว จะทำงานตลอด 24/7 โดยต้องบำรุงรักษาเป็นประจำเท่านั้น