<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Сушка on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/ru/tags/%D1%81%D1%83%D1%88%D0%BA%D0%B0/</link>
		<description>Recent content in Сушка on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 20 Jul 2026 11:46:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/ru/tags/%D1%81%D1%83%D1%88%D0%BA%D0%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ru/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 20 Jul 2026 11:46:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ru/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Прекратите угадывать время сушки пластин: почему именно инфракрасное излучение — лучший выбор&lt;br&gt;&#xA;При сушке пластин для МЭМС-датчиков вы работаете с влагой, что представляет опасность. Один неверный шаг может привести к тому, что поверхностное натяжение сведет вместе все эти крошечные, хрупкие микроструктуры. Это явление называется «сцеплением», и оно представляет серьезную проблему для тех, кто стремится добиться высокой производительности.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Если вы строите современный завод по производству полупроводников, нельзя полагаться на старые методы. Необходимо использовать такой источник тепла, который будет работать эффективно.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Энергетический аудит для сушильных установок</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ru/posts/energy-audit-for-fab-drying/</link>
				<pubDate>Mon, 13 Jul 2026 17:53:16 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ru/posts/energy-audit-for-fab-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Энергетический аудит для сушильных установок&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Перестаньте беспокоиться о загрязнении в процессе сушки ваших кристаллов. Когда вы работаете в чистой комнате класса 100, здесь нет места для ошибок. Одна-единственная крупинка пыли или небольшое количество газов, выделяемых дешевым нагревательным элементом, могут повредить ваши кремниевые пластины. Это настоящий кошмар.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Поэтому мы перешли на инфракрасные лампы из высокочистого синтетического кварца.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Почему кварц подходит для использования&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы используем фуссированный кремний, от которого удалены практически все примеси. Почему? Потому что при высоких температурах обычные материалы начинают разрушаться. Они выделяют металлические ионы и летучие органические вещества, что может повлиять на процесс производства. Кварц не имеет таких проблем.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Нагреватель для сушки пластин после процедуры CMP</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ru/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ru/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для сушки пластин после процедуры CMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На участке обработки пластин после процедуры CMP пластина, выходящая из раствора, все еще содержит микрокапли жидкости на своей поверхности. Это означает, что такая пластина готова к дальнейшей обработке. Проблемы в виде следов от воды, повторного нанесения слоев и искажения структуры пластины обычно возникают позже, уже на этапе литографии и эрозии. Устройство для сушки – это не просто удобный аксессуар; это последний этап термической обработки перед тем, как пластина покидает установку CMP.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет значение с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&#xA;Мы разработали устройство для сушки пластин после процедуры CMP на основе кварцевого галогенового излучателя коротких волн. Он обеспечивает быстрое и прямое передачу энергии, при этом мощность остается стабильной. Равномерность температуры по всей поверхности пластины контролируется на уровне ±0,1°C, что достигается благодаря использованию специальных материалов. Благодаря этому температурные параметры остаются стабильными как для первой, так и для последней пластин.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Лампа для сушки в процессе производства OLED дисплеев</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ru/posts/oled-manufacturing-drying-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:57:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ru/posts/oled-manufacturing-drying-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Лампа для сушки в процессе производства OLED дисплеев&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;При использовании технологии OLED-литографии не остается никакой возможности для тепловых отклонений. Даже незначительные отклонения в диапазоне ±0,5°C могут привести к нарушению однородности слоя фоторезиста, а также к проблемам с процессом его этчинга. Необходимо использовать лампу для сушки, которая будет работать с точностью, а не менять свои параметры в течение дня.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что мы создали и почему&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы разместили лампу для сушки OLED внутрь кварцевого корпуса с использованием галогенных излучателей с коротковолновым инфракрасным излучением. Это позволяет быстро передавать энергию в фоторезист без значительного нагрева подложки. Система контроля обеспечивает стабильность температуры в диапазоне ±0,1°C по всей поверхности пластины, а точность повторяемости составляет 0,05°C за цикл.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Быстрая сушка пластин инфракрасным излучением</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ru/posts/rapid-wafer-drying-infrared/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ru/posts/rapid-wafer-drying-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Быстрая сушка пластин инфракрасным излучением&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На линии часы — это не рекомендация, а предел. После нанесения методом центрифугирования на пластине остаётся тонкая плёнка фоторезиста, которую необходимо кондиционировать и высушить перед экспозицией. Если Soft bake не выдержан точно, профиль резиста смещается. Если Hard bake после экспозиции проведён неравномерно, допускаемые погрешности травления снижаются. И если на последнем этапе сушки остаются следы воды или поднимаются частицы, на следующий день в отчёте о выходе продукции это отразится напрямую.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Мы разработали нашу систему быстрого инфракрасного высушивания пластин, чтобы исключить эти переменные из тепловых этапов. Речь идёт не просто о нагреве, а о повторяемом термическом контроле на уровне пластины, который вписывается в производственный цикл и бюджет чистой комнаты.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
