http://ir-heating-case.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D1%81%D1%82/ Recent content in Пост on Infrared Heating Applications Hugo ru Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800 http://ir-heating-case.com/ru/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800 http://ir-heating-case.com/ru/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Нагреватель для сушки пластин после процедуры CMP"></p> <p>На участке обработки пластин после процедуры CMP пластина, выходящая из раствора, все еще содержит микрокапли жидкости на своей поверхности. Это означает, что такая пластина готова к дальнейшей обработке. Проблемы в виде следов от воды, повторного нанесения слоев и искажения структуры пластины обычно возникают позже, уже на этапе литографии и эрозии. Устройство для сушки – это не просто удобный аксессуар; это последний этап термической обработки перед тем, как пластина покидает установку CMP.</p> <p><strong>Что имеет значение с технической точки зрения</strong> Мы разработали устройство для сушки пластин после процедуры CMP на основе кварцевого галогенового излучателя коротких волн. Он обеспечивает быстрое и прямое передачу энергии, при этом мощность остается стабильной. Равномерность температуры по всей поверхности пластины контролируется на уровне ±0,1°C, что достигается благодаря использованию специальных материалов. Благодаря этому температурные параметры остаются стабильными как для первой, так и для последней пластин.</p>