<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Быстрый on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/ru/tags/%D0%B1%D1%8B%D1%81%D1%82%D1%80%D1%8B%D0%B9/</link>
		<description>Recent content in Быстрый on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/ru/tags/%D0%B1%D1%8B%D1%81%D1%82%D1%80%D1%8B%D0%B9/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Быстрая сушка пластин инфракрасным излучением</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ru/posts/rapid-wafer-drying-infrared/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ru/posts/rapid-wafer-drying-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Быстрая сушка пластин инфракрасным излучением&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На линии часы — это не рекомендация, а предел. После нанесения методом центрифугирования на пластине остаётся тонкая плёнка фоторезиста, которую необходимо кондиционировать и высушить перед экспозицией. Если Soft bake не выдержан точно, профиль резиста смещается. Если Hard bake после экспозиции проведён неравномерно, допускаемые погрешности травления снижаются. И если на последнем этапе сушки остаются следы воды или поднимаются частицы, на следующий день в отчёте о выходе продукции это отразится напрямую.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Мы разработали нашу систему быстрого инфракрасного высушивания пластин, чтобы исключить эти переменные из тепловых этапов. Речь идёт не просто о нагреве, а о повторяемом термическом контроле на уровне пластины, который вписывается в производственный цикл и бюджет чистой комнаты.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
