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		<title>CMP on Infrared Heating Applications</title>
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				<title>Aquecedor de secagem de wafers pós CMP</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Aquecedor de secagem de wafers pós CMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na área de fabricação, um wafer pós-CMP que sai da solução utilizada no processo ainda contém microgotículas nas áreas onde foram feitos os padrões. Esse wafer é, basicamente, um produto pronto para ser utilizado, mas ainda sujeito a problemas relacionados à umidade. Marcas causadas pela água, deposição excessiva de material e colapso dos padrões costumam aparecer mais tarde, justamente durante as etapas de litografia e gravação. O aquecedor de secagem não é apenas um recurso “útil”; ele representa a última etapa térmica antes que o wafer saia da célula de CMP.&lt;/p&gt;</description>
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