Extreem UV (EUV) resistverwarmeronderdelen

Sun, 05 Jul 2026 13:15:47 +0800

Extreem hoge UV-temperatuurregeling: de echte ingenieursoplossing
Wij bouwen onze heaters voor EUV-resisten om het op te nemen tegen de grote Amerikaanse en Japanse merken die je al kent. Het verschil? Wij leveren dezelfde prestaties, maar dan zonder dat je veel geld hoeft uit te geven.

We sluiten nooit compromissen als het om de fysica gaat. Voor lithografie en het verwerken van resisten heb je hitte die constant en betrouwbaar moet zijn. En dat is precies wat wij je bieden. We regelen de vermogensdichtheid, spanning en geometrie zodat de lamp urenlang kan blijven werken, zonder problemen.

Diepe UV (DUV) resistverhitingslamp

Sun, 28 Jun 2026 06:08:52 +0800

Op de productielijn is het proces van het drogen van de fotorezist geen ‘pauze’. Het is eerder een controlepunt dat niet kan worden vervalst. Een verschil van 1°C tijdens het drogen heeft invloed op de nauwkeurigheid van de afmetingen en kan leiden tot oneffenheden aan de randen van de lijnen. We hebben onze DUV-lamp zo ontworpen dat de temperatuur precies op het gewenste niveau blijft – niet op het niveau waar de lamp zich per ongeluk bevindt. Wat belangrijk is wanneer de wafers worden verwerkt, is de herhaalbaarheid onder belasting. De lamp zorgt ervoor dat de temperatuur over het hele oppervlak van de wafer constant blijft, binnen een marge van ±0,1°C. Dit zorgt weer voor een consistent proces en betere resultaten bij het verwijderen van oplosmiddelen en het verknooppunten van moleculen. Het uitgangsprofiel van de lamp is aangepast voor gebruik met DUV-fotorezist; dit zorgt voor een snellere droogtijd, zonder dat de kwaliteit van het proces minder wordt. De compatibiliteit met schone ruimtes is geen extra eigenschap; deze is al vanaf het begin meegenomen in het ontwerp. In omgevingen van klasse 1–100 komt er geen stof vrij door de warmtebron. Het systeem kan 24/7 draaien, zonder onverwachte stilstanden. Hierdoor krijgt u een nauwkeurige temperatuurregeling die de dispersie van de afmetingen beperkt en zo mislukkingen voorkomt. De energiebesparing is ook een voordeel; bovendien hoeft u minder onderdelen te vervangen en minder onderhoud te doen. Het is een geverifieerde oplossing die voldoet aan internationale standaarden voor halfgeleiderapparatuur. U heeft dezelfde thermische prestaties, zonder dat u vastzit aan één leverancier. Eén belangrijk punt om in gedachten te houden: de thermische uniformiteit hangt af van de geometrie van de chamber en van de manier waarop de wafer in de chamber wordt geplaatst. U krijgt de beste resultaten wanneer de lamp is afgestemd op de specifieke afmetingen van de chamber en wanneer het droogproces opnieuw wordt geoptimaliseerd voor het nieuwe profiel. Wij leveren de benodigde gegevens en handleidingen, zodat de veranderingen gemeten kunnen worden, in plaats van dat het een gok is.

UV on Infrared Heating Applications

Extreem UV (EUV) resistverwarmeronderdelen

Diepe UV (DUV) resistverhitingslamp