<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Laboratorium on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/nl/tags/laboratorium/</link>
		<description>Recent content in Laboratorium on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/nl/tags/laboratorium/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Halvegeleiderlaboratoriumovenlamp</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/nl/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/nl/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Halvegeleiderlaboratoriumovenlamp&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Bij het gebruik van een oven in de halfgeleiderproductie, wordt een afwijking in de oventemperatuur niet weergegeven door een waarschuwingslamp. In plaats daarvan zie je deze afwijkingen terug in de dimensies van het fotolastprofiel, of in een lagere opbrengst die pas na dagen kan worden verholpen. Tijdens het drogen van de wafers wordt de thermische behandeling precies geregeld.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;We hebben onze halfgeleiderlaboratoriumoven ontworpen met behulp van kortegolfige infraroodstraling. Hierdoor komt de energie rechtstreeks terecht in het fotolast en het substraat van de wafer, in plaats van dat de wanden van de oven worden verhit. Dit zorgt voor een snelle temperatuurstijging, nauwkeurige controle en consistente resultaten bij elke lading.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
