Drogen on Infrared Heating Applications

HEATER VOOR DROGEN VAN MEMS SENSORSCHIJVEN

Mon, 20 Jul 2026 11:46:38 +0800

Stop met raden over de droogtijd van uw wafers: waarom IR de oplossing is

Wanneer u MEMS-sensorwafers droogt, speelt u een gevaarlijk spel met vocht. Eén verkeerde zet en de oppervlaktespanning trekt die kleine, kwetsbare microstructuren naar elkaar toe. We noemen dit ‘stiction’ en het is een nachtmerrie voor iedereen die een hoge opbrengst wil behouden.

Als u een slimme fabriek bouwt, kunt u niet vertrouwen op ouderwetse methoden. U heeft hitte nodig die goed reageert.

Verwarmer voor het drogen van CMP wafers

Thu, 02 Jul 2026 09:27:37 +0800

Op de productielijn is een Post-CMP-wafel die uit het slurpbad komt nog steeds voorzien van microdruppeltjes op de gepatenteerde oppervlakken. Hierdoor kan de wafel gemakkelijk worden verwerkt. Watervlekken, opnieuw afzetten van stoffen en het instorten van het patroon komen meestal pas later voor – wanneer de wafel wordt onderworpen aan lithografie- en etapprocessen. De droogingsverwarmer is dus geen optioneel onderdeel; het is juist het laatste thermische element voordat de wafel de CMP-eenheid verlaat.

Wat technisch gezien belangrijk is: We hebben de droogingsverwarmer ontworpen rondom een kwarts-halogeen-emitter met kortegolflengte-straling. Deze emitter levert energie snel en rechtstreeks af, zodat de uitgangsspanning stabiel blijft. De thermische uniformiteit over het oppervlak van de wafel wordt gehouden bij ±0,1°C, gemeten op een productie-equivalente drager. Hierdoor blijft de thermische balans constant, zelfs tussen de eerste en de laatste wafel.

OLED fabrieksdrooglamp

Tue, 23 Jun 2026 00:57:25 +0800

Bij de gebruik van OLED-lithografie is er nauwelijks ruimte voor thermische afwijkingen. Als de temperatuur zelfs maar ±0,5°C afwijkt van het gewenste niveau, leidt dit tot ongelijkmatigheden in de dikte van de fotoresist, en ook de vorm van de resistentoppervlakken verandert. Er is dus een droogingslamp nodig die een constante temperatuur behoudt, in plaats van een lamp die met de tijd afwijkt.

Wat we hebben gebouwd en waarom We hebben de OLED-droogingslamp geplaatst in een kwartsomhulsel, samen met halogeenemitters die kortegolfgolf-infraroodlicht uitstralen. Hierdoor wordt energie snel en rechtstreeks overgedragen naar de fotoresist, zonder dat het onderliggende substraat te veel opwarmt. De heaters zijn zo gepositioneerd dat de temperatuur over het hele waferbord binnen ±0,1°C blijft, en de herhalbaarheid ligt op 0,05°C per cyclus.

Snelle waferdrogen infrarood

Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800

Op de productielijn is de klok geen suggestie—het is de grens. Na spin-coat ligt de wafer klaar met een dunne laag photoresist die geconditioneerd en gedroogd moet worden vóór belichting. Een Soft Bake die niet nauwkeurig is, laat het resistprofiel afwijken. Een Hard Bake na belichting die niet uniform is, doet de etstolerantie instorten. En als de laatste droogstap watermerken achterlaat of deeltjes opwaait, zie je dat de volgende ochtend terug in het opbrengstrapport.

Wij hebben ons snelle infrarood-systeem voor het drogen van wafers ontwikkeld om die variabelen uit de thermische stappen te halen. Het gaat hier niet alleen om verwarmen—maar om reproduceerbare, wafer-niveau thermische controle die past binnen een productiecyclus en een cleanroombudget.