AFM (Atomic Force Microscope) verwarmingselement

Sun, 07 Jun 2026 04:08:22 +0800

Op de productievloer is een drift van 0,1°C in de AFM-verwarmer niet alleen een meetstorende factor. Het kan de soft bake en hard bake van de fotoresist verstoren en het gehele thermische budget uit balans brengen. Wanneer thermische uniformiteit afwijkt, volgen ook lijndiktecontrole en defectdichtheid. We hebben deze AFM-verwarmer ontworpen om de temperatuur precies te handhaven waar de fysica dat vereist—direct op het monster, over het scangebied en binnen Class 1–100 cleanrooms.

Wat technisch van belang is
De verwarmer combineert een kortegolf-infrarode element met een kwarts-gestabiliseerd thermisch pad. Dit zorgt voor stabiele, gelokaliseerde verwarming met ±0,1°C uniformiteit direct aan het waferoppervlak. Het ontwerp stoot geen deeltjes uit tijdens het opwarmen en stabiliseren, waardoor het aantal deeltjes constant blijft tijdens lithografie-gerelateerde werkzaamheden.
We passen het oppervlak aan voor integratie met AFM, richten op 24/7 betrouwbaarheid en veranker herhaalbare setpoints die duizenden thermische cycli overleven zonder te driften. De stroomvoorziening is afgestemd op de afmetingen van het gereedschap en de interface is zo ingericht dat een snelle wissel mogelijk is—zonder onderbreking van het proces.

(Atomair on Infrared Heating Applications

AFM (Atomic Force Microscope) verwarmingselement