Op de 300mm-lijn merk je dat er problemen ontstaan wanneer het bakproces niet meer naar behoren verloopt. De randen van de afbeelding worden onregelmatig, en na het ontwikkelen zie je ongewenste afwijkingen. Wanneer de hete zone niet goed werkt, wordt de kwaliteit van de fotoresistent verminderd – dit heeft invloed op de productiekwaliteit. We hebben onze infraroodinstallatie zo ontworpen dat deze dit soort problemen voorkomt, nog voordat ze zich voordoen.
Wat technisch gezien belangrijk is: De array van kortgolfinfraroodemissies is afgestemd op een constante temperatuur over het hele oppervlak van de siliciumplaat: ±0,1°C. Dit blijft het geval tijdens het zachte en harde bakken. De snelle respons van het systeem zorgt ervoor dat de temperatuur precies op het gewenste niveau blijft. De hete zone is compatibel met cleanrooms van klasse 1 tot en met klasse 100. Hij produceert geen deeltjes tijdens het gebruik. Hierdoor is het systeem 24/7 betrouwbaar, zonder onverwachte stilstanden. Bovendien blijven de afmetingen consistent van batch tot batch.
Waarom dit belangrijk is in de fotolithografie: Bij fotolithografie is het zachte bakken nodig om oplosmiddelen te verwijderen en om spanningen in de film te beperken. Het harde bakken zorgt er juist voor dat de afbeelding goed vastligt, zodat de fotoresistent klaar is voor verwerking. Dankzij de gelijkmatige IR-warmte blijft het gedrag van de glasovergang consistent over het hele oppervlak van de siliciumplaat. Hierdoor blijven de afmetingen consistent. Dit leidt tot minder herwerkingen en minder afval.
Ook het energieverbruik neemt af. Het systeem verwarmt alleen het gewenste gebied, waardoor de thermische massa onder controle blijft. Hierdoor neemt ook het energieverbruik af.
Praktische aspecten: De hete zone is compact en moet perfect passen in het frame van het apparaat. Er moet voldoende ruimte zijn rondom de siliciumplaat, en de luchtvloeiing moet overeenkomen met die van het bestaande systeem. De instellingen van het systeem kunnen snel worden aangepast. Echter, als je de chemie van de fotoresistent verandert of gebruikmaakt van dikker materiaal, moet je het systeem opnieuw kalibreren om dezelfde consistentie te behouden.