http://ir-heating-case.com/ms/tags/poskan/ Recent content in Poskan on Infrared Heating Applications Hugo ms Thu, 02 Jul 2026 09:27:37 +0800 http://ir-heating-case.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Thu, 02 Jul 2026 09:27:37 +0800 http://ir-heating-case.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer selepas proses CMP."></p> <p>Di ruang <a href="https://o-yate.net">pemprosesan</a> wafer, wafer yang telah melalui proses CMP masih mempunyai titisan air kecil pada permukaannya. Wafer seperti ini sebenarnya merupakan wafer yang siap untuk diproses seterusnya. Kesan akibat adanya air tersebut, seperti kesan berbentuk tanda air atau kecacatan pada corak permukaan wafer, biasanya akan muncul pada peringkat litografi dan etching. Pemanas khusus untuk mengeringkan wafer bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan; ia merupakan alat penting sebelum wafer meninggalkan unit CMP.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Pemanas khusus untuk mengeringkan wafer ini dibina menggunakan pemancar gelombang pendek jenis kuarsa-halogen. Pemancar ini mampu menghantar tenaga dengan cepat dan secara langsung, dan hasilnya tetap stabil. Keseragaman suhu pada permukaan wafer dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C, <a href="https://o-yate.com">berbanding</a> dengan standar pengeluaran biasa. Dengan cara ini, variasi suhu antara wafer pertama dan wafer terakhir dapat dielakkan.</p>