Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Mon, 20 Jul 2026 11:46:38 +0800

Berhenti teka-teki mengenai masa pengeringan wafer: Mengapa IR merupakan pilihan yang terbaik

Ketika anda memproses wafer sensor MEMS, anda sebenarnya sedang bermain permainan yang berisiko tinggi dengan kelembapan. Sedikit kesilapan pun boleh menyebabkan struktur mikroskopik yang halus tersebut melekat antara satu sama lain. Keadaan ini dikenali sebagai “stiction”, dan ia merupakan masalah besar bagi sesiapa yang ingin memastikan kualiti produk yang tinggi.

Jika anda ingin membina fasiliti pembuatan yang canggih, anda tidak boleh bergantung pada kaedah lama. Anda memerlukan sistem pemanasan yang efektif.

Pengeringan wafer pantas menggunakan inframerah

Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800

Pada barisan pengeluaran, masa bukan cadangan—ia adalah had. Selepas spin-coat, wafer terletak dengan filem photoresist nipis yang perlu dikondisikan dan dikeringkan sebelum pendedahan. Soft bake yang tidak tepat, profil resist akan berubah. Hard bake selepas pendedahan yang tidak sekata, toleransi etsa akan runtuh. Dan jika langkah pengeringan akhir meninggalkan kesan air atau mengangkat zarah, anda akan melihat kesannya dalam laporan hasil keesokan paginya.

Kami membina sistem pengeringan wafer inframerah pantas untuk menghapuskan pembolehubah tersebut dalam langkah termal. Ini bukan sekadar pemanasan—tetapi kawalan termal berulang pada tahap wafer yang sesuai dengan kitaran pengeluaran dan bajet bilik bersih.

Pengeringan on Infrared Heating Applications

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Berhenti teka-teki mengenai masa pengeringan wafer: Mengapa IR merupakan pilihan yang terbaik

Pengeringan wafer pantas menggunakan inframerah