Pengering Rambu on Infrared Heating Applications

Pengawal pemanas inframerah digital

Mon, 27 Jul 2026 09:07:28 +0800

Mengawal Suhu Dengan Baik di Kilang Pembuatan Semikonduktor
Pembuatan semikonduktor memerlukan kawalan suhu yang tepat. Jika suhu berbeza walaupun sedikit sahaja, ia akan menyebabkan masalah. Itulah sebabnya kita beralih daripada sistem pemanasan konvensional kepada pengawal pemanasan jenis IR digital.

Tujuannya adalah untuk mengurangkan pembaziran tenaga. Bilik bersih memerlukan banyak tenaga untuk berfungsi, dan kita berusaha untuk mengurangkan kesan karbon yang dihasilkan.

Mengapa Sistem IR Digital Berkesan
Fikirkan tentang pemanas lama. Mereka menghabiskan separuh masa mereka untuk memanaskan udara di sekelilingnya. Ini merupakan pembaziran tenaga. Pelancaran sinar IR pula berbeza; ia menghantar tenaga secara langsung ke wafer atau permukaan yang ingin dipanaskan.

Pengering inframerah yang kompak untuk IC

Thu, 25 Jun 2026 05:07:21 +0800

Di kilang pembuatan semikonduktor, perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja pun boleh mengganggu dimensi penting bahan tersebut dan menjejaskan kualiti produk yang dihasilkan. Kaedah pemanasan konvensional tidak dapat mengatasi masalah kelewatan penyebaran haba serta variasi suhu di permukaan bahan tersebut. Oleh itu, kami mencipta pengering inframerah yang kompak untuk proses pemprosesan IC, agar variasi suhu dapat dikawal dengan lebih baik.

Pemanasan inframerah: Keseragaman dan kebolehulangan pada tahap sub-milimeter
Alat ini menggunakan pancar inframerah dekat (NIR) yang disesuaikan untuk diserap oleh bahan fotoresist. Dengan cara ini, tenaga panas dapat meresap lebih cepat, sehingga suhu dapat dikawal dengan tepat. Keseragaman suhu pada permukaan wafer mencapai tahap sub-milimeter, dan suhu tetap stabil dalam lingkungan ±0.1°C semasa proses pemanasan berlangsung.

Pembuatan pengering filem pemisah bateri

Mon, 01 Jun 2026 20:41:08 +0800

Di lantai pembuatan, pergeseran terma tidak muncul dengan label amaran. Ia boleh dilihat melalui penurunan hasil barisan, lonjakan partikel pada monitor, atau profil photoresist yang mula berubah dari satu syif ke syif berikutnya. Dalam proses pengeringan wafer, soft bake dan hard bake photoresist, serta pengawetan pembungkusan, suhu bukan sekadar kenop—ia adalah proses yang anda bertanggungjawab.

Apa yang penting di sebalik proses

Kami mereka pengering dan modul bake dengan kawalan terma yang ketat: ±0.1°C keseragaman merentasi zon panas, diukur pada satah wafer, bukan blok pemanas. NIR dan IR gelombang sederhana membekalkan tenaga terus ke dalam filem dan resist, membolehkan kitaran lebih cepat tanpa lebihan suhu. Pemanas gentian karbon mengekalkan kestabilan dan kebolehulangan dalam proses contact bake. Keseluruhan sistem adalah serasi dengan bilik bersih dari Kelas 1 hingga Kelas 100, dengan penghasilan partikel sifar pada antara muka proses dan laluan ekzos yang menghalang pencemaran masuk. Kebolehulangan direka masuk—setpoint kekal dalam toleransi jam demi jam, lot demi lot.