<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Laboratori on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/ms/tags/laboratori/</link>
		<description>Recent content in Laboratori on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/ms/tags/laboratori/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk makmal semikonduktor</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ms/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ms/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk makmal semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses pembakaran wafer, perubahan suhu dalam ketuhar tidak ditunjukkan melalui lampu amaran. Sebaliknya, perubahan tersebut akan mempengaruhi dimensi kritikal wafer setelah proses pembakaran selesai, atau menyebabkan gangguan pada profil fotoresist. Proses pengeringan wafer pula memerlukan kawalan suhu yang tepat.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami menggunakan sumber cahaya inframerah gelombang pendek dalam ketuhar semikonduktor kami, kerana tenaga cahaya ini dapat diserap secara langsung oleh fotoresist dan substrat wafer, bukannya dinding ketuhar. Ini membolehkan kawalan suhu yang lebih baik, serta hasil pembakaran yang konsisten dari satu batch ke batch yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
