<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Ketuhar on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/ms/tags/ketuhar/</link>
		<description>Recent content in Ketuhar on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/ms/tags/ketuhar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk makmal semikonduktor</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ms/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ms/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk makmal semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses pembakaran wafer, perubahan suhu dalam ketuhar tidak ditunjukkan melalui lampu amaran. Sebaliknya, perubahan tersebut akan mempengaruhi dimensi kritikal wafer setelah proses pembakaran selesai, atau menyebabkan gangguan pada profil fotoresist. Proses pengeringan wafer pula memerlukan kawalan suhu yang tepat.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami menggunakan sumber cahaya inframerah gelombang pendek dalam ketuhar semikonduktor kami, kerana tenaga cahaya ini dapat diserap secara langsung oleh fotoresist dan substrat wafer, bukannya dinding ketuhar. Ini membolehkan kawalan suhu yang lebih baik, serta hasil pembakaran yang konsisten dari satu batch ke batch yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Lampu relau penyebaran semikonduktor</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ms/posts/semiconductor-diffusion-furnace-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 02:47:33 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ms/posts/semiconductor-diffusion-furnace-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Lampu relau penyebaran semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai fab, relau bukanlah kotak hitam. Ia adalah sempadan terma yang dikawal dengan ketat. Jika susunan lampu mula menunjukkan prestasi yang menurun, peta suhu merentasi wafer akan berubah. Profil photoresist bergeser. Variasi ketebalan oksida melebar. Hasil jatuh—dengan senyap, dan dalam angka.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami membina lampu relau difusi atas satu sebab: menyampaikan haba yang stabil dan boleh diulang di tempat proses memerlukannya, tanpa menambah risiko pencemaran. Lampu adalah antara muka antara tenaga elektrik dan bajet terma wafer. Ia perlu tepat, bersih, dan boleh dipercayai—bergilir-gilir tanpa henti.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
