IR on Infrared Heating Applications

Hujung kaca seramik untuk pemancar IR

Tue, 21 Jul 2026 04:13:57 +0800

Memastikan Bilik Bersih Kelas 100 Tetap Bersih

Ketika mengendalikan bilik bersih kelas 100, masalah pemanasan merupakan satu cabaran yang serius. Ia bukan hanya berkaitan dengan suhu, tetapi juga dengan bahan-bahan yang tidak kelihatan.

Lampu IR biasa sering menjadi penyebab masalah ini. Lampu tersebut akan membebaskan zarah logam kecil dari hujungnya. Jika zarah-zarah ini jatuh pada wafer atau lapisan optikal, ia akan merosakkan komponen tersebut. Ini bermakna wang yang telah dilaburkan akan sia-sia saja.

Kita menyelesaikan masalah ini dengan menggunakan tiub kuarsa berkualiti tinggi yang digabungkan dengan penutup seramik khusus. Inilah cara ia berfungsi.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Tue, 21 Jul 2026 04:06:46 +0800

Hentikan serpihan kaca: Jaga kebersihan wafer ketika lampu IR rosak
Dalam kilang pengeluaran semikonduktor yang berkapasiti tinggi, keretakan lampu bukan sekadar masalah yang menyebabkan gangguan operasi sahaja. Ia merupakan situasi yang sangat buruk. Apabila tiub kuarsa pecah, serpihan kaca dan gas halogen akan tersebar ke merata-rata tempat. Satu letupan sahaja sudah cukup untuk memusnahkan kesemua wafer yang ada. Kami telah meluangkan banyak masa untuk mencari cara untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku, dengan memberi perhatian kepada cara pembinaan lampu tersebut serta bahan-bahan yang digunakan.

Suhu yang seragam untuk wafer berukuran 300mm menggunakan teknologi IR.

Tue, 30 Jun 2026 13:07:50 +0800

Pada garis pengeluaran 300mm ini, anda akan dapat merasakan perubahan yang berlaku apabila proses pembakaran bahan bermula. Lebar garis tersebut berubah-ubah, dan selepas proses pengembangan, bahan tersebut akan menunjukkan kesan negatif. Apabila zon panas bertentangan dengan nilai yang ditetapkan, ia akan menyebabkan pembaziran bahan fotorezist, dan kualiti hasil pengeluaran akan terjejas. Kami telah membina sistem inframerah ini untuk menghalang masalah tersebut sebelum ia berlaku.

Apa yang penting dari segi teknikal:
배열 pemancar inframerah gelombang pendek ini direka untuk memastikan suhu permukaan wafer kekal seragam, pada tahap ±0.1°C, sepanjang proses pembakaran. Respons cepat sistem ini membolehkan suhu dikawal dengan tepat, tanpa melebihi batas yang ditetapkan. Zon panas ini sesuai digunakan dalam bilik bersih yang mempunyai kelas dari 1 hingga 100, dan ia tidak menghasilkan sebarang zarah semasa beroperasi. Sistem ini memberikan kebolehpercayaan 24/7, tanpa masa henti yang tidak dijangka, serta memastikan dimensi wafer tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain.