<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bateri on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/ms/tags/bateri/</link>
		<description>Recent content in Bateri on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 20:41:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/ms/tags/bateri/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pembuatan pengering filem pemisah bateri</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/ms/posts/battery-separator-film-dryer-fab/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 20:41:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/ms/posts/battery-separator-film-dryer-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pembuatan pengering filem pemisah bateri&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai pembuatan, pergeseran terma tidak muncul dengan label amaran. Ia boleh dilihat melalui penurunan hasil barisan, lonjakan partikel pada monitor, atau profil photoresist yang mula berubah dari satu syif ke syif berikutnya. &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Dalam&lt;/a&gt; proses pengeringan wafer, soft bake dan hard bake photoresist, serta pengawetan pembungkusan, suhu bukan sekadar kenop—ia adalah proses yang anda bertanggungjawab.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di sebalik proses&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami mereka pengering dan modul bake dengan kawalan terma yang ketat: ±0.1°C keseragaman merentasi zon panas, diukur pada satah wafer, bukan blok pemanas. NIR dan IR gelombang sederhana membekalkan tenaga terus ke dalam filem dan resist, membolehkan kitaran lebih cepat tanpa lebihan suhu. Pemanas gentian karbon mengekalkan kestabilan dan kebolehulangan dalam proses contact bake. Keseluruhan sistem adalah serasi dengan bilik bersih dari Kelas 1 hingga Kelas 100, dengan penghasilan partikel sifar pada antara muka proses dan laluan ekzos yang menghalang pencemaran masuk. Kebolehulangan direka masuk—setpoint kekal dalam toleransi jam demi jam, lot demi lot.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
