Berhenti teka-teki mengenai masa pengeringan wafer: Mengapa IR merupakan pilihan yang terbaik
Ketika anda memproses wafer sensor MEMS, anda sebenarnya sedang bermain permainan yang berisiko tinggi dengan kelembapan. Sedikit kesilapan pun boleh menyebabkan struktur mikroskopik yang halus tersebut melekat antara satu sama lain. Keadaan ini dikenali sebagai “stiction”, dan ia merupakan masalah besar bagi sesiapa yang ingin memastikan kualiti produk yang tinggi.
Jika anda ingin membina fasiliti pembuatan yang canggih, anda tidak boleh bergantung pada kaedah lama. Anda memerlukan sistem pemanasan yang efektif.
Membuat sistem pemanasan yang boleh dikawal secara programatik
Masalah dengan ketuhar konvensional adalah ia lambat untuk memanaskan bahan, dan juga lambat untuk menyejukkan. Untuk mendapatkan data yang tepat daripada ketuhar tersebut, ibarat cuba mengendalikan kapal yang roda kemudinya rosak.
Itulah sebabnya kami menggunakan teknologi inframerah (IR). IR sebenarnya merupakan alat pengendali suhu yang sangat efektif. Ia dapat mengubah intensiti haba dengan tepat, jadi proses pemanasan menjadi mudah dikawal. Anda boleh menghubungkan outputnya terus ke PLC, supaya setiap wafer mendapat rawatan yang sama. Proses ini boleh diramalkan dan diulang-ulang. Selain itu, ia juga serasi dengan sistem digital yang digunakan.
Kehebatan gelombang inframerah pendek
Kami memilih gelombang inframerah pendek untuk memproses wafer MEMS. Mengapa? Kerana ia dapat menghilangkan kelembapan dengan cepat. Sebelum wafer sempat merasakan bahawa ia sedang dipanaskan, air tersebut sudah hilang. Ini bermakna tiada masa untuk struktur mikroskopik tersebut melekat antara satu sama lain.
Namun, perlu berhati-hati: walaupun intensiti haba yang tinggi bagus untuk menjaga saiz peralatan yang kecil, ia juga akan menghasilkan banyak haba sisa. Jika anda menggunakan sistem pemanasan berkuasa tinggi, pastikan sistem penyejukan peralatan anda juga efektif. Jika tidak, komponen elektronik anda akan rosak, dan itu bukanlah masalah yang ingin anda hadapi.
Mengapa cara ini lebih baik daripada cara lama
Kebanyakan orang biasanya memanaskan udara terlebih dahulu, dengan harapan bahagian yang diproses akan menjadi panas. Itu merupakan pembaziran masa. IR pula memanaskan wafer secara langsung, tanpa perlu melalui udara.
Ia lebih cepat. Ia juga mengelakkan bilik bersih daripada menjadi terlalu panas. Selain itu, dengan adanya sistem maklum balas tertutup menggunakan sensor IR, anda tidak perlu lagi membuat tekaan. Anda boleh melihat suhu permukaan secara masa nyata dan menyesuaikan intensiti haba pada bila-bila masa.
Anda bukan lagi sekadar “mengendalikan proses secara automatik”. Anda benar-benar dapat mengawal proses tersebut.