Berhenti menunggu proses pengeringan wafer: Mengapa IR lebih baik daripada udara panas
Jika anda pernah terlibat dalam proses pemprosesan semikonduktor yang kompleks, anda pasti tahu bahawa tahap pembilasan merupakan langkah yang menyebabkan proses menjadi lambat. Ini merupakan halangan utama dalam proses tersebut.
Saya masih melihat banyak kilang yang menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer mereka. Memang cara ini berkesan, tetapi ia memerlukan masa yang lama. Jika anda beralih kepada lampu inframerah yang tahan air, anda sebenarnya sedang mengubah cara kerja proses tersebut.
Mari bincangkan tentang masa
Udara panas bergantung pada konveksi. Anda memanaskan udara, kemudian menghembuskannya ke permukaan wafer. Anda perlu menunggu sehingga kelembapan di permukaan wafer menguap, dan ini merupakan proses yang lambat.
Sebaliknya, IR menggunakan tenaga radiasi. Panasnya bergerak secara langsung ke permukaan wafer, jadi proses pengeringan berlaku dalam masa beberapa saat sahaja. Dengan cara ini, masa yang diperlukan untuk mengeringkan wafer menjadi jauh lebih singkat.
Menyelesaikan masalah “kelembapan”
Masalahnya ialah tahap pembilasan merupakan kawasan yang lembap. Jika anda menggunakan lampu IR biasa, ia akan rosak sebaik sahaja titisan air menyentuh permukaan kuarsa yang panas. Ini merupakan masalah besar.
Itulah sebabnya kami menggunakan lampu yang mempunyai lapisan pelindung khas. Lampu-lampu ini boleh beroperasi di kawasan yang lembap tanpa menyebabkan filamen lampu rosak. Selain itu, lampu IR bertindak dengan cepat. Oven udara panas pula memerlukan masa yang lama untuk dipanaskan atau disejukkan. Dengan IR, proses pengeringan berlaku dengan cepat. Anda hanya perlu memastikan sistem kawalan berfungsi dengan baik agar proses pengeringan berjalan dengan lancar.
Kelemahan
Namun, IR bukanlah penyelesaian yang sempurna. Intensiti cahaya IR yang tinggi dapat menyebabkan wafer menjadi rosak. Ini bagus untuk kelajuan, tetapi ia juga memberi tekanan yang tinggi pada bahan semikonduktor tersebut.
Jika anda menggunakan kuasa yang terlalu tinggi atau meletakkan lampu terlalu dekat dengan wafer, wafer tersebut akan rosak. Anda perlu mengambil masa untuk menyesuaikan ketinggian dan kuasa lampu agar sesuai dengan ketebalan bahan semikonduktor tersebut.
Beralih dari penggunaan udara panas ke IR bukan sekadar menukar komponen yang digunakan. Ia merupakan cara baru untuk memikirkan proses pengeringan wafer. Wafer akan dikeringkan dengan lebih cepat—tetapi pastikan sistem penyejukan mampu mengikuti kelajuan tersebut.