http://ir-heating-case.com/ko/tags/%EB%B9%A0%EB%A5%B8/ Recent content in 빠른 on Infrared Heating Applications Hugo ko Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800 http://ir-heating-case.com/ko/posts/rapid-wafer-drying-infrared/ Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800 http://ir-heating-case.com/ko/posts/rapid-wafer-drying-infrared/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="고속 웨이퍼 건조 적외선"></p> <p>라인에서 시간은 제안 사항이 아니라 경계선이다. 스핀 코팅 후, 웨이퍼는 얇은 포토레지스트 필름을 가진 상태로 노출 전에 컨디셔닝 및 건조가 필요하다. 소프트 베이크가 엄격하지 않으면 레지스트 프로파일이 변동한다. 노출 후 하드 베이크가 균일하지 않으면 식각 허용 오차가 무너진다. 최종 건조 단계에서 수분 자국이 남거나 입자가 발생하면 다음 날 수율 보고서에서 그 대가를 확인하게 된다.<br> 우리는 이러한 변수를 열 공정에서 제거하기 위해 고속 웨이퍼 건조 적외선 시스템을 개발했다. 이는 단순한 가열이 아니라, 생산 주기와 클린룸 예산 내에서 반복 가능한 웨이퍼 단위의 열 제어에 관한 것이다.</p>