http://ir-heating-case.com/ja/tags/%E4%B9%BE%E7%87%A5/ Recent content in 乾燥 on Infrared Heating Applications Hugo ja Mon, 20 Jul 2026 11:46:38 +0800 http://ir-heating-case.com/ja/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ Mon, 20 Jul 2026 11:46:38 +0800 http://ir-heating-case.com/ja/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="MEMSセンサーワイヤー用乾燥ヒーター"></p> <p>ウェーハの乾燥時間を推測するのはやめましょう。IRが最適な解決策です。<br> MEMSセンサーのウェーハを乾燥させるとき、湿気という危険な要素と格闘していることになります。少しでも間違えると、表面張力によって微細な<a href="https://goldisgood.com">構造</a>がくっついてしまいます。これを「スティクション」と呼び、高い歩留まりを維持しようとする人々にとっては大きな問題です。</p> http://ir-heating-case.com/ja/posts/energy-audit-for-fab-drying/ Mon, 13 Jul 2026 17:53:16 +0800 http://ir-heating-case.com/ja/posts/energy-audit-for-fab-drying/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="ファブ乾燥のエネルギー監査"></p> <p>ファブ内での汚染について心配する必要はありません。<br> クラス100のクリーンルームを運用している場合、ミスの余地は一切ありません。わずかなほこりや、安価な加熱素子から発生するガスでも、シリコンウェハーは台無しになってしまいます。これは真っ赤な悪夢です。<br> だからこそ、私たちは高純度の合成石英製のIRランプを採用しました。</p> http://ir-heating-case.com/ja/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800 http://ir-heating-case.com/ja/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="CMP後ウェーハ乾燥ヒーター"></p> <p>ファブの現場では、スラリーから出てきたポストCMPウェーハには、依然としてパターン部分に微細な液滴が残っています。このようなウェーハは、基本的には歩留まりを向上させるチャンスがあるものです。水跡や再堆積、パターンの崩れといった問題は、リソグラフィーやエッチングの工程で初めて現れます。したがって、乾燥ヒーターは単なる「便利な装置」ではなく、ウェーハがCMPセルを出る前の最後の熱処理手段なのです。</p> http://ir-heating-case.com/ja/posts/oled-manufacturing-drying-lamp/ Tue, 23 Jun 2026 00:57:25 +0800 http://ir-heating-case.com/ja/posts/oled-manufacturing-drying-lamp/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="OLED製造用乾燥ランプ"></p> <p>OLEDリソグラフィーにおいては、熱変動の余地はほとんどありません。もし加熱処理で温度が±0.5℃でもずれてしまうと、CDの均一性が悪化し、またレジストの形状も不<a href="https://o-yate.com">安定</a>になり、エッチングの際に問題が生じます。したがって、一定の温度を保つことができる乾燥ランプが必要です。日々の環境変化に影響されないような安定した性能を持つランプが求められます。</p> http://ir-heating-case.com/ja/posts/rapid-wafer-drying-infrared/ Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800 http://ir-heating-case.com/ja/posts/rapid-wafer-drying-infrared/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="高速ウェーハ乾燥用赤外線"></p> <p>ライン上では、時間は「提案」ではなく境界線である。スピンコート後、ウェハは薄いフォトレジスト膜の状態であり、露光前に条件付けと乾燥が必要となる。ソフトベイクの温度管理が不十分だと、レジストのプロファイルが変動する。露光後のハードベイクで温度ムラがあると、エッチングの許容範囲が崩壊する。最終乾燥工程で水跡が残ったり粒子が発生したりすると、翌朝の歩留まりレポートにその影響が現れる。</p>