http://ir-heating-case.com/ja/tags/%E3%82%A6%E3%82%A7%E3%83%8F%E3%83%BC/ Recent content in ウェハー on Infrared Heating Applications Hugo ja Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800 http://ir-heating-case.com/ja/posts/rapid-wafer-drying-infrared/ Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800 http://ir-heating-case.com/ja/posts/rapid-wafer-drying-infrared/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="高速ウェーハ乾燥用赤外線"></p> <p>ライン上では、時間は「提案」ではなく境界線である。スピンコート後、ウェハは薄いフォトレジスト膜の状態であり、露光前に条件付けと乾燥が必要となる。ソフトベイクの温度管理が不十分だと、レジストのプロファイルが変動する。露光後のハードベイクで温度ムラがあると、エッチングの許容範囲が崩壊する。最終乾燥工程で水跡が残ったり粒子が発生したりすると、翌朝の歩留まりレポートにその影響が現れる。</p>