Lampada allogenica per sistema RTP

Fri, 26 Jun 2026 05:30:24 +0800

Nella sala di produzione, si sa come funzionano le cose: un cambiamento di temperatura di soli 0,5°C durante il processo di essiccazione del photoresist può causare variazioni nelle dimensioni critiche dei componenti, con conseguente perdita di un intero lotto di prodotti. Il RTP non riguarda soltanto il calore: si tratta piuttosto di un controllo termico preciso a livello di wafer, in modo da non interferire con le condizioni richieste nella sala pulita.

Ciò che è importante sotto il profilo tecnico
Abbiamo progettato queste lampade ad altezza di onde infrarosse corte, con involucro in quarzo. Questo permette una risposta rapida e una riduzione al minimo del ritardo termico. Si ottiene così una uniformità a livello di wafer entro ±0,1°C, proprio ciò che è necessario per mantenere costanti le temperature durante i processi di essiccazione. L’assemblaggio delle lampade è compatibile con le condiizioni richieste nelle sale pulite di classe 1–100; i materiali e la geometria scelti aiutano a ridurre il numero di particelle presenti nell’ambiente. La luminosità delle lampade rimane stabile per oltre 5.000 ore, con una diminuzione dei lumeni inferiore al 5%. Questo permette di effettuare processi prolungati senza dover ricalibrare le lampade ogni due settimane.

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Lampada allogenica per sistema RTP