Soluzioni sostenibili per la produzione manifatturiera

Mon, 27 Jul 2026 09:38:56 +0800

Perché le fabbriche di semiconduttori stanno abbandonando i forni tradizionali a favore dei sistemi di cura a raggi infrarossi
La maggior parte delle fabbriche di semiconduttori sta smettendo di utilizzare quei forni enormi a convezione. È logico: data la crescente esigenza di utilizzo di energie “verdi” e le rigide normative riguardanti i materiali senza piombo, il vecchio metodo di lavorazione non è più efficace.
Il vero vantaggio dei sistemi di cura a raggi infrarossi è che essi ignorano completamente l’aria circostante: l’energia viene diretta direttamente sul substrato da trattare. Perché sprecare molta energia per riscaldare le pareti di un forno enorme, quando si può semplicemente riscaldare solo la parte su cui si sta lavorando?

Lampada di essiccazione per la produzione di OLED

Tue, 23 Jun 2026 00:57:25 +0800

Nelle linee di produzione OLED, la litografia a OLED non lascia alcuno spazio per eventuali deviazioni termiche. Anche una deviazione di soli ±0,5°C può causare problemi legati all’uniformità della struttura del materiale fotoresistivo, nonché problemi nei processi di incisione. È necessario quindi utilizzare una lampada di essiccazione che mantenga una temperatura costante, senza subire variazioni nel corso del tempo.

Cosa abbiamo costruito e perché
Abbiamo montato la lampada di essiccazione OLED su emettitori a infrarossi a onde corte, all’interno di un involucro in quarzo. Questo permette una trasferimento rapido ed efficace dell’energia al materiale fotoresistivo, con un minimo riscaldamento del substrato sottostante. L’array di riscaldamento è progettato in modo tale che la temperatura rimanga entro i limiti di ±0,1°C su tutta la superficie del wafer; inoltre, la ripetibilità dei risultati è di 0,05°C ciclo dopo ciclo.

Produzione on Infrared Heating Applications

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Lampada di essiccazione per la produzione di OLED