Lampada per forno da laboratorio a semiconduttori

Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800

Durante la fase di cottura dei wafer, le variazioni di temperatura all’interno dell’oven non vengono indicate da alcun segnale di allarme. Tali variazioni si manifestano invece come discrepanze nelle dimensioni critiche del prodotto, oppure come variazioni nel profilo del fotoresist; inoltre, possono causare problemi di qualità che richiedono giorni per essere risolti. Nelle fasi di essiccazione dei wafer, sia quella “soft” che quella “hard”, il bilancio termico è fisso e preciso.

Abbiamo progettato i nostri forni per semiconductor utilizzando radiazioni infrarosse a breve lunghezza d’onda: queste radiazioni agiscono direttamente sul fotoresist e sul substrato su cui è posizionato il wafer, senza riscaldare le pareti dell’oven stesso. Questo permette un rapido raggiungimento della temperatura desiderata, un controllo preciso e profili di cottura ripetibili da lote a lotto.

Laboratorio on Infrared Heating Applications

Lampada per forno da laboratorio a semiconduttori