Riscaldatore per essiccazione dei wafer post CMP

Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800

Nella fase di asciugatura post-CMP, il wafer che esce dal processo di trattamento è ancora ricoperto di microparticelle presenti sulle superfici del wafer stesso. In pratica, si tratta di un wafer pronto per essere utilizzato, ma con alcune imperfezioni che potrebbero comprometterne le prestazioni. I problemi legati all’acqua residua, alla rideposizione di sostanze e al collasso delle strutture presenti sul wafer compaiono solitamente nelle fasi successive, cioè durante la litografia e l’etching. Il riscaldatore per l’asciugatura non è semplicemente un elemento ausiliario: rappresenta infatti l’ultimo strumento termico utilizzato prima che il wafer lasci la camera di trattamento.

Lampada di essiccazione per la produzione di OLED

Tue, 23 Jun 2026 00:57:25 +0800

Nelle linee di produzione OLED, la litografia a OLED non lascia alcuno spazio per eventuali deviazioni termiche. Anche una deviazione di soli ±0,5°C può causare problemi legati all’uniformità della struttura del materiale fotoresistivo, nonché problemi nei processi di incisione. È necessario quindi utilizzare una lampada di essiccazione che mantenga una temperatura costante, senza subire variazioni nel corso del tempo.

Cosa abbiamo costruito e perché
Abbiamo montato la lampada di essiccazione OLED su emettitori a infrarossi a onde corte, all’interno di un involucro in quarzo. Questo permette una trasferimento rapido ed efficace dell’energia al materiale fotoresistivo, con un minimo riscaldamento del substrato sottostante. L’array di riscaldamento è progettato in modo tale che la temperatura rimanga entro i limiti di ±0,1°C su tutta la superficie del wafer; inoltre, la ripetibilità dei risultati è di 0,05°C ciclo dopo ciclo.

Essiccazione on Infrared Heating Applications

Riscaldatore per essiccazione dei wafer post CMP

Lampada di essiccazione per la produzione di OLED