Melawan; Menolak on Infrared Heating Applications

Bagian pemanas untuk resistor UV ekstrem (EUV)

Sun, 05 Jul 2026 13:15:47 +0800

Pemanasan Resistor EUV yang Ekstrem: Kebenaran Teknis yang Sejati
Inilah fakta yang perlu Anda ketahui. Kami merancang pemanas resistor EUV ini untuk bisa bersaing dengan merek-merek terkemuka dari Amerika dan Jepang yang sudah Anda kenal. Perbedaannya adalah, kami memberikan kualitas yang setara, tetapi tanpa membuat biaya operasional Anda melonjak.

Kami tidak pernah mengorbankan prinsip-prinsip fisika dalam proses pembuatan pemanas ini. Dalam proses litografi dan pemrosesan resistor, diperlukan panas yang stabil dan konsisten setiap kali digunakan. Itulah yang kami berikan kepada Anda. Kami menyesuaikan densitas daya, tegangan, dan geometri pemanas tersebut agar lampu dapat beroperasi secara stabil, jam demi jam, tanpa adanya fluktuasi.

Lampu untuk proses pemanasan bahan resist jenis Deep UV (DUV)

Sun, 28 Jun 2026 06:08:52 +0800

Di lantai produksi, proses pemanasan fotoresist bukanlah “titik penghentian” dalam proses produksi. Sebaliknya, itu merupakan titik kontrol yang tidak boleh diabaikan. Perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan akan menyebabkan ketidakstabilan dimensi kritis dari bahan fotoresist, serta menimbulkan ketidakteraturan pada tepi garis-garis yang terbentuk. Kami merancang lampu pemanas DUV agar suhu tetap stabil sesuai kebutuhan proses produksi—bukan sesuai kondisi lingkungan di sekitar alat tersebut.

Yang penting saat wafer diproses adalah tingkat repetibilitasnya. Lampu ini memastikan suhu di permukaan wafer tetap konstan, dalam rentang ±0,1°C. Hal ini berdampak positif pada efisiensi proses pelarutan bahan kimia dan perilaku ikatan antar molekul dalam fotoresist.