<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Laboratorium on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/id/tags/laboratorium/</link>
		<description>Recent content in Laboratorium on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/id/tags/laboratorium/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu oven laboratorium semikonduktor</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/id/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:20:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/id/posts/semiconductor-laboratory-oven-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampu oven laboratorium semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses pembakaran di dalam oven, perubahan suhu oven tidak ditunjukkan melalui lampu peringatan. Perubahan tersebut akan terlihat dalam bentuk perubahan dimensi kritis setelah proses pembakaran selesai, atau berupa penyimpangan pada profil fotoresist. Hal ini membutuhkan waktu berminggu-minggu untuk diperbaiki. Dalam proses pengeringan wafer, baik yang &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;menggunakan&lt;/a&gt; metode “soft bake” maupun “hard bake”, tingkat panas yang digunakan sudah ditentukan secara pasti.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami merancang oven laboratorium semikonduktor kami menggunakan sinar inframerah pendek, karena energinya dapat langsung masuk ke dalam fotoresist dan substrat wafer, bukan ke dinding oven. Hal ini memungkinkan pengendalian suhu yang lebih baik, serta hasil pemrosesan yang konsisten dari batch ke batch.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
