IR on Infrared Heating Applications

Ujung kap keramik untuk pemancar IR

Tue, 21 Jul 2026 04:13:57 +0800

Mempertahankan Kebersihan Ruang Kelas 100 yang Maksimal
Saat mengelola ruang kelas kelas 100 yang bersih, masalah pemanasan merupakan tantangan tersendiri. Bukan soal suhu saja, tetapi juga faktor-faktor tak terlihat lainnya.

Lampu IR standar sering menjadi sumber masalah. Lampu tersebut mengeluarkan partikel logam kecil dari ujungnya. Jika partikel tersebut jatuh pada wafer atau lapisan optik, maka uang yang telah Anda keluarkan akan sia-sia.

Kami menyelesaikan masalah ini dengan menggunakan tabung kuarsa berkualitas tinggi yang dipadukan dengan penutup keramik khusus. Berikut cara kerjanya:

Sensor IR berketelitian tinggi untuk wafer

Tue, 21 Jul 2026 04:06:46 +0800

Hentikan pecahan kaca: Jaga kebersihan wafer saat lampu IR rusak
Di pabrik semikonduktor yang berkapasitas besar, kerusakan pada lampu bukanlah masalah sepele yang hanya menyebabkan gangguan operasional saja. Ini merupakan bencana yang serius.

Ketika tabung kuarsa rusak, potongan kaca dan gas halogen akan berserakan ke mana-mana. Dengan demikian, seluruh wafer yang ada akan menjadi limbah. Kami telah menghabiskan banyak waktu untuk mencari cara mencegah hal ini terjadi, dengan fokus pada cara pembuatan lampu tersebut serta bahan-bahan yang digunakan.

Suhu yang seragam untuk wafer berukuran 300 mm tipe IR

Tue, 30 Jun 2026 13:07:50 +0800

Pada garis produksi berukuran 300 mm ini, Anda akan merasakan adanya gangguan ketika proses pemanasan dimulai. Lebar garis gambar menjadi tidak stabil, dan setelah proses pengembangan selesai, muncul endapan pada permukaan wafer. Ketika zona panas tidak dapat bekerja sesuai dengan parameter yang ditentukan, maka bahan fotoresist akan terbuang sia-sia, sehingga kualitas produk pun menurun. Kami membangun sistem inframerah ini untuk menghindari masalah tersebut sebelum ia terjadi.

Apa yang penting secara teknis? Arrangement emitor inframerah berfrekuensi pendek ini dirancang untuk menciptakan keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, yaitu dalam rentang ±0,1°C, baik selama proses pemanasan ringan maupun keras. Respons cepat dari sistem ini mengurangi keterlambatan penyesuaian suhu, sehingga suhu tetap sesuai dengan parameter yang ditentukan. Zona panas ini kompatibel dengan lingkungan ruang bersih tingkat 1 hingga 100, dan tidak menghasilkan partikel apa-apa saat beroperasi dalam kondisi stabil. Dengan demikian, sistem ini memberikan keandalan 24/7 tanpa adanya masa henti yang tak terduga, serta hasil yang konsisten setiap kali produksi dilakukan.