Pada garis produksi berukuran 300 mm ini, Anda akan merasakan adanya gangguan ketika proses pemanasan dimulai. Lebar garis gambar menjadi tidak stabil, dan setelah proses pengembangan selesai, muncul endapan pada permukaan wafer. Ketika zona panas tidak dapat bekerja sesuai dengan parameter yang ditentukan, maka bahan fotoresist akan terbuang sia-sia, sehingga kualitas produk pun menurun. Kami membangun sistem inframerah ini untuk menghindari masalah tersebut sebelum ia terjadi.
Apa yang penting secara teknis? Arrangement emitor inframerah berfrekuensi pendek ini dirancang untuk menciptakan keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, yaitu dalam rentang ±0,1°C, baik selama proses pemanasan ringan maupun keras. Respons cepat dari sistem ini mengurangi keterlambatan penyesuaian suhu, sehingga suhu tetap sesuai dengan parameter yang ditentukan. Zona panas ini kompatibel dengan lingkungan ruang bersih tingkat 1 hingga 100, dan tidak menghasilkan partikel apa-apa saat beroperasi dalam kondisi stabil. Dengan demikian, sistem ini memberikan keandalan 24/7 tanpa adanya masa henti yang tak terduga, serta hasil yang konsisten setiap kali produksi dilakukan.
Mengapa hal ini penting dalam proses litografi? Dalam proses litografi, proses pemanasan ringan digunakan untuk menghilangkan pelarut dan mengontrol tekanan pada lapisan film. Proses pemanasan keras digunakan untuk memfiksasi gambar yang terbentuk agar siap untuk proses pengikisan atau implantasi. Dengan adanya panas inframerah yang seragam, perilaku transisi termal pada wafer tetap konsisten. Bentuk tepi-tepi wafer juga tetap stabil, sehingga dimensi-dimensi pentingnya tetap terjaga. Hasilnya adalah lebih sedikit proses perbaikan, distribusi yang lebih baik, dan limbah yang lebih sedikit.
Penggunaan energi juga berkurang. Sistem ini hanya memanaskan area yang ditargetkan saja, sehingga massa termal tetap terkendali, dan konsumsi energi pun berkurang.
Aspek praktisnya: Zona panas ini memiliki ukuran yang kompak, sehingga dapat digabungkan dengan modul pelapisan atau pemanasan yang sudah ada. Jarak antara wafer dan zona panas harus cukup sempit, dan aliran udara perlu disesuaikan dengan sistem ventilasi yang sudah ada.
Proses penyetelan sistem ini relatif singkat—Anda hanya perlu menyetel daya lampu, emisivitas, dan parameter PID sesuai dengan jenis bahan fotoresist yang digunakan. Setelah disetel, profil suhu akan tetap konsisten. Namun, jika Anda mengganti jenis bahan fotoresist atau menggunakan lapisan film yang lebih tebal, Anda perlu melakukan kalibrasi ulang agar kualitas suhu tetap terjaga.